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            北京歐波同光學技術有限公司

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            氬離子研磨系統(tǒng)

            氬離子研磨系統(tǒng)
            • 品牌:賽默飛
            • 產(chǎn)地:美國
            • 關注度:5482
            • 型號:CleanMill
            • 報價:100-150萬元
            • 信息完整度:
            核心參數(shù)
            • 誤差率:\
            • 分辨率:\
            • 重現(xiàn)性:\
            • 分散方式:\
            • 測量時間:\
            • 測量范圍:\
            產(chǎn)品介紹

               傳統(tǒng)的機械研磨方式制備樣品斷面,斷面不可避免的存在機械損傷和磨料嵌入樣品引起的污染。使用氬離子束切割樣品制備,可以制備出沒有機械損傷和表面污染的平整斷面,非常適用于 制備電池材料和部件的斷面樣品,從而進行掃 描電子顯微鏡結構表征分析。Thermo Scientific CleanMillTM 為電池斷面樣品提供了完善的氬離子束研磨方案,可實現(xiàn)對電子束敏感材料和空氣敏感材料本真狀態(tài)下的SEM成像和表征分析。

             

              Thermo  Scientific CleanMillTM 氬離子束斷面研磨系統(tǒng)(BIB-CP)旨在為精確的表征提供優(yōu)質高效的樣品制備方案。其標配的 16 keV 超高能離子源在保證研磨質量下具有更強的濺射能力和更高的研磨效率。同時,低能量離子源可實現(xiàn)對具有精細結構和易受離子束輻照損傷樣品的無損精拋和清潔。

             

              諸多電池材料和部件具備電子束敏感和空氣敏感的特性。Thermo Scientific CleanMillTM 與 CleanConnectTM **兼容,使得 Thermo Scientific IGST 工作流程更為完善。CleanConnect 樣品轉移系 統(tǒng)提供了一套超高性價比的集成化解決方案,允許樣品在惰性氣體 / 真空下快速轉移至電子顯微鏡樣品倉內。這種真空聯(lián)鎖解決方案采用直徑達 25mm 的標準樣品臺,極大地簡化了不同樣品在 SEM/DualBeam 系統(tǒng)轉移的工作。樣品可在手套箱內裝載至 CleanConnect 樣品倉內,進而通過 CleanConnect 轉移至 CleanMill 中進行斷面樣品制備。隨后,將CleanMill中制備好的 斷面樣品采用CleanConnect 轉移至 Thermo Scientific SEM 中進行微觀結構表征。整個過程中樣品都處于惰性氣體保護狀態(tài)以保證其斷面完整性。該工作流程極大地簡化了樣品轉移工作,提高 了結果獲取速度,實現(xiàn)了在本真狀態(tài)下對空氣敏感材料的結構表征。

             

            關鍵優(yōu)勢 

            ?高能量離子槍可實現(xiàn)快速研磨和拋光

            ?采用專用90°樣品臺制備截面樣品

            ?自動化參數(shù)設置和操作,可實現(xiàn)樣品旋轉和擺動操作

            ?可進行空氣敏感材料的樣品制備,使得賽默飛惰性氣體樣品轉移工作流程(IGST)更為完善

            ?配備高分辨CMOS相機和觸控屏,可實時觀察樣品研磨過程

            ?可選配低能量離子槍,實現(xiàn)對具有精細結構和易受輻照損傷樣品的 無損精拋和清潔。

            ?可選配冷臺,在進行電子束敏感樣品的冷凍研磨時可實現(xiàn)自動液氮加注

             

            image.png


             

            Thermo Scientific CleanMill 與 CleanConnect 和全套 IGST 工作流 程**兼容,實現(xiàn)對空氣敏感材料在本真狀態(tài)下的表征分析。

             

            規(guī)格參數(shù) 

            離子槍選擇

            標配超高能量離子槍,加速電壓連續(xù)可調

            ? 2 – 16 keV

            ? 離子束電流范圍:20 – 500 A

            ? **濺射速率:> 500 m/hr

            ? 選配低能量離子槍

            ? 加速電壓:100 eV – 2 keV

            ? 自動化的離子源設置

            成像系統(tǒng)

            帶有固定X10放大功能的高分辨CMOS相機,其數(shù)字放大功能可實 現(xiàn)連續(xù)調至X120

            樣品臺 

            樣品傾斜:0°到180°,0.1°增量 樣品旋轉:面內旋轉 360°

            樣品擺動:面內搖擺,從±1°到 ±180°,1°/步

            樣品托種類和可承載**樣品尺寸 

            標準型表面拋光樣品托

            ?承載樣品**尺寸?30 mm x 15 mm CleanConnect兼容樣品托:

            ?表面拋光

            o承載樣品**尺寸?28 mm x 3 mm

            o可互換樣品托可承載樣品**尺寸?20.5 mm x 8.5 mm

            ?截面拋光

            o 90° 樣品托:承載樣品**尺寸 10 mm (長) x 10 mm (寬) x 3 mm (高)

            真空系統(tǒng)

            ?無油隔膜泵和渦輪分子泵,帶(皮拉尼/潘寧)真空計

            氣體供應體統(tǒng)

            ?氬氣 (純度99.999%)

            ?高精度氣體流量控制系統(tǒng)

            計算機控制系統(tǒng)

            ?易操作的觸控屏圖形用戶界面(Touch GUI)

            o 系統(tǒng)設置

            o 研磨參數(shù)設置

            o 操作控制

            ? Touch GUI采用Windows 11系統(tǒng)

            可選配件

            ? 帶有自動加注功能的液氮制冷臺,可實現(xiàn)無間斷冷凍磨拋

            ? 樣品調節(jié)定位裝置

            ? 其他備件和易耗損件

            ? 適用于可加載CleanConnect的手套箱端口裝置

            保修和培訓

            ? 1年保修

            ? 設計簡化,僅需簡單培訓

            ? 包含使用說明的用戶手冊

            安裝要求

            ? 預留安裝端口 (其他附件不能共用此端口)

            ? 環(huán)境:與普通顯微鏡的要求相同,見預安裝手冊

            ? 儀器右側必須留有足夠空間,以便使用CleanConnect轉移桿

            ? 系統(tǒng)尺寸: 70 cm (寬) x 70 cm (深) x 61 cm (高)

            image.png 

            由CleanMill制備的NMC陰極極片截面,采用Apreo 2S成像

             

             


            問商家

            • 氬離子研磨系統(tǒng)的工作原理介紹?
            • 氬離子研磨系統(tǒng)的使用方法?
            • 氬離子研磨系統(tǒng)多少錢一臺?
            • 氬離子研磨系統(tǒng)使用的注意事項
            • 氬離子研磨系統(tǒng)的說明書有嗎?
            • 氬離子研磨系統(tǒng)的操作規(guī)程有嗎?
            • 氬離子研磨系統(tǒng)的報價含票含運費嗎?
            • 氬離子研磨系統(tǒng)有現(xiàn)貨嗎?
            • 氬離子研磨系統(tǒng)包安裝嗎?

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            企業(yè)名稱

            北京歐波同光學技術有限公司

            企業(yè)類型

            信用代碼

            9111 0101 695 015 46XA

            法人代表

            注冊地址

            成立日期

            注冊資本

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