天津中環(huán)電爐股份有限公司
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產品用途:
此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控
生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。
產品組成:
CVD系統(tǒng)配置:
1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。
2.滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動,并配有風冷系統(tǒng)。
3.多路質量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)
產品特點:
控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。
(電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設定的速度滑動,因有滑動限位功能爐體不會發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風冷系統(tǒng)快速降溫。
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企業(yè)名稱
天津中環(huán)電爐股份有限公司企業(yè)類型
信用代碼
91120113700587236G法人代表
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