天津中環(huán)電爐股份有限公司
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產(chǎn)品用途
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD系統(tǒng)配置;
1.1200度開啟式滑動單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)(單獨購買)
產(chǎn)品特性;
電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區(qū)域長;整管可調;精致小巧,性價比高,可實現(xiàn)快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
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天津中環(huán)電爐股份有限公司企業(yè)類型
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91120113700587236G法人代表
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