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納米油墨高剪切研磨分散機(jī)，納米油墨高速研磨分散機(jī)，納米油墨高速分散機(jī)，納米油墨高剪切研磨機(jī)，德國進(jìn)口高速研磨分散機(jī)，納米油墨改進(jìn)型膠體磨，納米油墨14000轉(zhuǎn)研磨分散機(jī)，納米油墨21000轉(zhuǎn)研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力。

　隨著對(duì)印刷質(zhì)量要求的不斷提高，對(duì)油墨也提出了更高的要求。市場(chǎng)上出現(xiàn)了諸如磁性油墨、熒光油墨、光致變油墨、溫致變油墨等等，使印刷業(yè)的發(fā)展躍上新的高度。

油墨的細(xì)度和純度，對(duì)印刷品質(zhì)量有很大影響。要印刷出高質(zhì)量的產(chǎn)品，必須要有細(xì)度、純高度的油墨作保證。油墨的細(xì)度就是指油墨中的顏料（包括填充料）顆粒的大小與顏料、填充料分布于連結(jié)料中的均勻度，它既反映到印品的質(zhì)量，同時(shí)又影響到印版的耐印率。工藝實(shí)踐情況表明，彩印產(chǎn)品用網(wǎng)紋版印刷或?qū)嵉匕婷嬷泻屑?xì)小陰字、陰線，印刷過程中易出現(xiàn)糊版、版面感染、質(zhì)量故障，如沒有認(rèn)真去檢查和分析，可能陷入操作誤區(qū)，以為油墨稠度不適、粘度太大、布墨量太大或壓力太大而盲目作些錯(cuò)誤的調(diào)整。誰知卻是由油墨細(xì)度不好引起的。油墨的細(xì)度與顏料、填充料的性質(zhì)和伙粒的大小有直接的關(guān)系。一般情況來說，用無機(jī)顏料（不包括炭黑）所制成的油墨，顆粒較粗。這與油墨的軋制工藝有很大關(guān)系。油墨在軋制過程中研磨的次數(shù)愈多，它就愈顯得均勻，顏料顆粒與連結(jié)料接觸面也就愈大，油墨的顆粒就愈細(xì)，其印刷性能也就顯得愈好、愈穩(wěn)定。以印刷網(wǎng)紋版為例，版面上高調(diào)和中間調(diào)的1-4成網(wǎng)點(diǎn)不乏有之，要是油墨顆粒與點(diǎn)子面積的比例較接近的話，則容易使網(wǎng)點(diǎn)空虛或鋪展起毛，甚至出現(xiàn)點(diǎn)子不光潔之印刷弊病。因此，油墨細(xì)度愈高，印刷品上的網(wǎng)點(diǎn)也愈顯得清晰和飽滿有力。

納米油墨的特性

　　納米技術(shù)是屬于新興的科學(xué)技術(shù)。納米是一個(gè)長度單位，為9m～10m，此技術(shù)的研究對(duì)象主要是納米材料。納米材料如今已開始滲透各個(gè)領(lǐng)域。1994年，美國的馬薩諸塞州xmx公司已成功獲得一項(xiàng)用于制造油墨用的納米級(jí)均勻微粒原料的**。由于納米金屬微粒能對(duì)光波全部吸收而使自身呈現(xiàn)黑色，同時(shí)對(duì)光又有散射作用。因此，利用這些特性，可把納米金屬微粒添加到黑色油墨中，制造納米墨油墨，以提高其純度和密度。此外，半導(dǎo)體納米粒子由于存在顯著的量子尺寸效應(yīng)和表面效應(yīng)，因而對(duì)光的吸收表現(xiàn)出一定的特性。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時(shí)，物料通過投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子齒列高速運(yùn)轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時(shí)完成第二次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對(duì)處理過的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產(chǎn)對(duì)于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%