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            上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

            4 年金牌會(huì)員

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            石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)

            石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)
            • 品牌:IKN
            • 產(chǎn)地:德國(guó)
            • 關(guān)注度:2649
            • 型號(hào):CMD2000
            • 報(bào)價(jià):118900元
            • 信息完整度:
            核心參數(shù)
            • 能耗:2.20-110
            • 處理量:300-40000
            • 物料類型:其它
            • 工作原理:立式
            產(chǎn)品介紹

            石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī),石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī),納米硅研磨分散機(jī),石墨烯復(fù)合漿料研磨分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口高剪切研磨分散機(jī),高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī),膠體磨升級(jí)款研磨機(jī)

             

            IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

             

            石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來的獨(dú)特光學(xué)特性,用于紅外光探測(cè)有著突出的優(yōu)勢(shì)。但也存在著明顯的劣勢(shì):本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機(jī)制,導(dǎo)致石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率較低;石墨烯自身的光生載流子壽命短,僅皮秒左右,導(dǎo)致光生載流子難以有效收集,也嚴(yán)重影響探測(cè)器的光響應(yīng)率,石墨烯探測(cè)器的低響應(yīng)率無法滿足實(shí)際應(yīng)用的需要。目前,通過對(duì)石墨烯進(jìn)行量子點(diǎn)修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié)、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導(dǎo)集成等多種方法,可以不同程度地提高石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率,以達(dá)到或接近實(shí)際應(yīng)用的需要。

             

            由于鋰離子電池具有高容量、無記憶效應(yīng)、快速可逆充放電、高庫倫效率等優(yōu)點(diǎn),其已在便攜式電子產(chǎn)品如手機(jī)、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)等中得到廣泛應(yīng)用。然而再近二十年來,人們?cè)俅笕萘夸囯x子二次電池的研究商進(jìn)展緩慢。為滿足對(duì)高容量鋰離子二次電池的需求,開發(fā)高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究?jī)r(jià)值。

               硅石一種理想的鋰離子電池負(fù)極材料,其具有很高的理論儲(chǔ)鋰容量以及較低的儲(chǔ)理點(diǎn)位。而在充放電過程中,硅極材料的體積效應(yīng)使得該材料容易粉化,進(jìn)入從集流體上剝落,從而導(dǎo)致容量迅速衰減。而且,硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應(yīng)用

              石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準(zhǔn)二維材料。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比、優(yōu)異的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性。

            IMG_20190125_131434_看圖王.jpg

            上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

            CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

            yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

            第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

             

            CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

            研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

            1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

             

            2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

            3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

            4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

            5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

            設(shè)備其它參數(shù):

            設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
            電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
            電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ440V/50HZ
            電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
            研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
            研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
            研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
            進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
            研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

             

             IMG_20190125_145513_看圖王.jpg

            從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

            1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

            2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

            3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

            4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

            5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

             

            線速度的計(jì)算:

            剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

            剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                           g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

            由上可知,剪切速率取決于以下因素:

            轉(zhuǎn)子的線速率

            在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
            IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

            速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

             所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

             

            CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
             

            型號(hào)

            流量

            L/H

            轉(zhuǎn)速

            rpm

            線速度

            m/s

            功率

            kw

            入/出口連接

            DN

            CMD2000/4

            300

            9000

            23

            2.2

            DN25/DN15

            CMD2000/5

            1000

            6000

            23

            7.5

            DN40/DN32

            CMD2000/10

            2000

            4200

            23

            22

            DN80/DN65

            CMD2000/20

            5000

            2850

            23

            37

            DN80/DN65

            CMD2000/30

            8000

            1420

            23

            55

            DN150/DN125

            CMD2000/50

            15000

            1100

            23

            110

            DN200/DN150

             

            流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

            工藝應(yīng)用:

            食品纖維類物料的濕法超細(xì)破碎與均質(zhì)      可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解

            動(dòng)物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工      不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散

            不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散       納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散

            IKN研磨分散機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域:

            1、  精細(xì)化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散

            2、  石油化工、潤(rùn)滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化

            3、  農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復(fù)合肥、乳油濕性粉劑

            4、  生物醫(yī)藥、細(xì)胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣

            5、  日用化工、護(hù)膚霜、護(hù)膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精

            6、  食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末

            7、  涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤(rùn)土

             

             

             

             


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            工商信息

            企業(yè)名稱

            上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

            企業(yè)類型

            有限公司

            信用代碼

            91310117690142603P

            法人代表

            曹小勇

            注冊(cè)地址

            上海市松江區(qū)九新公路865號(hào)2幢101室-1

            成立日期

            2009-6-9

            注冊(cè)資本

            100萬

            有效期限

            無限

            經(jīng)營(yíng)范圍

            機(jī)械設(shè)備及配件生產(chǎn)、加工,機(jī)械設(shè)備,五金交電,儀器儀表,實(shí)驗(yàn)室設(shè)備銷售,從事機(jī)械設(shè)備、計(jì)算機(jī)、電子、化工領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)開發(fā)、 技術(shù)咨詢、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)服務(wù),從事貨物及技術(shù)的進(jìn)出口業(yè)務(wù)。
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            上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司是一家合作經(jīng)營(yíng)企業(yè),依肯通過引進(jìn)德國(guó)IKN技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營(yíng)銷體系。她保持與全球的混合乳化技術(shù)同步,同時(shí)擁有優(yōu)秀的技術(shù)研究人才和生產(chǎn)能力,為中國(guó)及全球提供多元化的產(chǎn)品及技術(shù)服務(wù)。她已經(jīng)發(fā)展成為中國(guó)流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的XX者。 公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一乳化機(jī)(乳化機(jī),高剪切乳化機(jī),管線式乳化機(jī))二 均質(zhì)機(jī),三 分散機(jī),四 膠體磨,五 乳化泵,六 研磨機(jī),七濕法粉碎機(jī),九成套

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