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面議型號
Insitec干法/濕法/噴霧式品牌
馬爾文帕納科產(chǎn)地
英國樣本
暫無誤差率:
Dv(50)±2%,使用驗證標準粒子板分辨率:
N/A重現(xiàn)性:
N/A儀器原理:
靜態(tài)光散射分散方式:
N/A測量時間:
N/A測量范圍:
0.1μm - 2500μm看了馬爾文在線粒度儀Insitec的用戶又看了
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Insitec系統(tǒng)具有在線連續(xù)粒度分析的功能,可進行高效且具成本效益的工業(yè)工藝監(jiān)控。 其適用的工藝流范圍廣泛,從干粉到溫度又高又粘的漿料,再到噴霧及乳劑,無論每小時處理的材料量是幾毫克還是幾百噸,該系統(tǒng)均能得心應手。 Insitec系統(tǒng)的測量粒度范圍是0.1 μm至2500 μm。
Insitec系列儀器堅固的結構以及其運用的激光衍射技術,迎合了工藝過程連續(xù)測量對分析儀器的嚴格要求,諸如:研磨、分級、噴霧干燥、霧化、過濾和造粒等各種環(huán)境,已成為大多數(shù)顆粒加工行業(yè)的標準裝備,包括調色劑、制藥、水泥、礦物、粉末涂料、碳素、乳化、顏料和金屬粉末等。
Insitec系列分析儀、工藝接口、粒度分析軟件、自動控制和數(shù)據(jù)報告均可定制化,以滿足您的特定需求。
Insitec干法
可在苛刻工業(yè)環(huán)境中使用的Insitec干式顆粒粒度分析儀,采用激光衍射技術測量0.1 μm至2500 μm的顆粒粒度。 Insitec干式分析儀通過選件進行配置,適合各種實際的干式顆粒工藝,提供24小時實時監(jiān)測與控制,可用于:
粉塵區(qū)域危險環(huán)境
氣體或粉塵區(qū)域危險環(huán)境
移動式應用
研磨材料
制藥工藝
Insitec濕法
可在苛刻工業(yè)環(huán)境中使用的Insitec濕式顆粒粒度分析儀,采用激光衍射技術測量乳劑、懸浮劑及漿液中0.1 μm至2500 μm的顆粒粒度。 Insitec濕式分析儀通過選件進行配置,適合各種實際的濕式顆粒工藝,提供24小時實時監(jiān)測與控制,可用于:
氣體或粉塵區(qū)域危險環(huán)境
全自動濃度控制
制藥工藝
自定義配置
合作解決方案
Insitec噴霧法
工業(yè)化設計,Insitec 噴霧型使用激光衍射發(fā)適用于測量0.1微米-2500微米的液滴和顆粒。 具有24小時實時監(jiān)測及控制功能的Insitec噴霧式分析儀甚至還可測量高濃度噴霧及氣溶膠。 使用選件靈活配置,簡化工藝安裝,可用于:
按要求量身定制的配置
粉末流
制藥工藝
24小時在線連續(xù)粒度分析
隨著動力電池和新能源汽車的需求爆發(fā),鋰電正極材料也正在快速迭代,其中三元材料逐漸成為動力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法,化學分析過程相對復雜、分析時間長、梯度稀釋誤
2021-08-06
展期:2025年3月10日-12日展館:上海世博展覽館 H1 號館地址:上海市?浦東博成路850號展位號:H1-A4262025年3月10日至12日,馬爾文帕納科(Malvern Panalytica
為了更好的服務于一直以來選擇并支持馬爾文帕納科分析技術的廣大用戶,除了上述客戶關懷季的巡檢活動,我們還將在4月奉上一系列服務日活動:四場分別針對激光粒度儀、納米粒度儀、X射線衍射儀、X射線熒光光譜儀用
近日,馬爾文帕納科(Malvern Panalytical)宣布其最新推出的X射線熒光光儀(XRF)"Revontium 極光"正式接受訂單,并成功在美國High Desert A
本文摘要納米氣泡的粒度表征,受限于其顆粒濃度低、粒徑分布寬等特點,若使用動態(tài)光散射(DLS)技術進行測試,信號弱,數(shù)據(jù)質量較差。本文將介紹利用納米顆粒跟蹤(NTA)技術實現(xiàn)實時、可視化的納米氣泡顆粒表
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除了化學性之外,金屬粉末的物理特性還決定這增材制造的性能,包括粉末的整體特性和單個金屬顆粒的特性。關鍵的整體特性是指堆積密度和流動性。堆積密度和流動性受顆粒粒度和形狀等形態(tài)特性的影響。本文將介紹顆粒粒