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等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD品牌
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名稱：等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
型號(hào)：ZYE-1200-PE
簡(jiǎn)介：為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法（PECVD）。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區(qū)管式爐、三通道質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)用于生長(zhǎng)納米線、石墨烯或SiC薄膜等
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氣氛箱式爐是一種在特定氣氛條件下對(duì)物料進(jìn)行熱處理的工業(yè)電爐，廣泛應(yīng)用于陶瓷、玻璃、金屬及新材料等領(lǐng)域。它通過精確控制爐內(nèi)的氣氛成分(如氮?dú)狻錃?、氬氣?，以達(dá)到特定的加熱效果和材料性能要求。以下是關(guān)
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