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濺鍍系統
? 濺鍍系統?主要由以下幾個部分組成：真空室、排氣系統、濺射源和控制系統。其工作原理分為抽真空、輝光放電和濺射三個階段。首先，通過抽氣系統將真空室內的空氣抽出，達到所需的真空度；然后，通過高壓電離室內氣體產生等離子體；*后，高能粒子轟擊靶材表面，使靶材表面的原子被濺射出來，沉積在基片上形成所需膜層?
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