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            MOCVD治具的清洗爐
            MOCVD治具的清洗爐

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            面議

            型號(hào)

            清洗爐

            品牌

            產(chǎn)地

            浙江

            樣本

            暫無(wú)
            芯茂(嘉興)半導(dǎo)體科技有限公司

            高級(jí)會(huì)員

            |

            第1年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實(shí)

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            該設(shè)備用于去除附著在 MOCVD 托盤和零部件上的沉積物(GaN、AlN 等)。采用潔凈氣體的干式清洗法,因此不需要濕法后道處理, 可減少托盤和零部件的損傷。


            產(chǎn)品詳情:

            ●該設(shè)備用于去除附著在 MOCVD 托盤和零部件上的沉積物(GaN、AlN 等)。采用潔凈氣體的干式清洗法,因此不需要濕法后道處理, 可減少托盤和零部件的損傷。

            ●利用潔凈氣體進(jìn)行干式清洗,減少對(duì)托盤造成的損傷,可有效去除沉積物的同時(shí),相較于其他清洗方法損傷減少。
            ●無(wú)需后道處理工序,無(wú)需處理廢液可提高生產(chǎn)效率并降低運(yùn)行成本。
            ●全自動(dòng)清洗系統(tǒng)將托盤或零部件放入清洗爐后,只需一次開(kāi)關(guān)操作即可開(kāi)始清洗。
            ●可對(duì)應(yīng)外徑為 φ800mm 的大型托盤,可同時(shí)清洗6個(gè)。
            ●采用箱形腔體,節(jié)省空間、節(jié)能。

            清洗原理:
            通過(guò)高溫下GaN、AlN等沉積物與H2、CL2等潔凈氣體的反應(yīng),使得沉積物氣化,從 而*終達(dá)到去除目的。

            20221011171231_1628.jpg設(shè)備優(yōu)勢(shì):
            ① 利用潔凈氣體進(jìn)行干式清洗,減少對(duì)托盤造成的損傷,可有效去除沉積物的同時(shí),相較于其他清洗方法損傷減少。
            ② 無(wú)需后道處理工序,無(wú)需處理廢液。可提高生產(chǎn)效率并降低運(yùn)行成本。
            ③ 全自動(dòng)清洗系統(tǒng),將托盤或零部件放入清洗爐后,只需一次開(kāi)關(guān)操作即可開(kāi)始清洗。
            ④ 可對(duì)應(yīng)大型托盤,可對(duì)應(yīng)外徑為 φ800mm 的托盤,可同時(shí)清洗6個(gè)。
            ⑤ 節(jié)省空間的設(shè)計(jì),采用箱形腔體,節(jié)省空間、節(jié)能。
            ⑥ 全球范圍的清潔劑,具有多種工藝氣體,如Cl2、HCl、H2、N2

            20221011171231_9416.jpg

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            售后服務(wù)

            10分

            易用性

            10分

            性價(jià)比

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