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SSB200小Mask系列曝光機(jī)品牌
上海微電子產(chǎn)地
上海樣本
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產(chǎn)品特征
高精度
精密的光學(xué)系統(tǒng)和先進(jìn)的測校等技術(shù),保證設(shè)備高分辨率,支持新型顯示屏的高精度曝光。
低使用成本
較低的運(yùn)營和維護(hù)費(fèi)用:采用標(biāo)準(zhǔn)6英寸掩模(或其加長版),2倍放大成像,顯著降低掩模費(fèi)用。
可拼接曝光大尺寸屏
采用精密的拼接策略,依靠優(yōu)良的控制能力,可實現(xiàn)更大尺寸顯示屏幕的拼接曝光。
工藝適應(yīng)性強(qiáng)
支持多種基板尺寸,可選配紅外等多種對準(zhǔn)光源波長,適應(yīng)各種曝光工藝工況。具有多達(dá)45片工位的掩模版庫,每片獨(dú)立版盒,對生產(chǎn)制造非常方便。
暫無數(shù)據(jù)!