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        TFC-6650C化學(xué)氣相沉積(MPCVD)設(shè)備
        TFC-6650C化學(xué)氣相沉積(MPCVD)設(shè)備

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        面議

        型號(hào)

        TFC-6650C化學(xué)氣相沉積(MPCVD)設(shè)備

        品牌

        碳方程

        產(chǎn)地

        山西

        樣本

        暫無(wú)
        碳方程半導(dǎo)體設(shè)備制造(山西)有限公司

        高級(jí)會(huì)員

        |

        第1年

        |

        生產(chǎn)商

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        TFC-6650C,微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)設(shè)備是***的 CVD 系統(tǒng)。針對(duì)用戶的具體要求設(shè)計(jì)和研制的一臺(tái)多用途、高穩(wěn)定中等壓強(qiáng)微波等離子體綜合設(shè)備。它具有智能化生長(zhǎng)、性能先進(jìn)、功能完 善、結(jié)構(gòu)合理,使用方便、安全可靠、外形美觀等特點(diǎn),特別適合應(yīng)用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積;材料表面處理和改性;低溫氧化物的生長(zhǎng)等領(lǐng)域。image.png

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