參考價格
面議型號
化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)品牌
創(chuàng)世杰產地
北京樣本
暫無看了化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
Orion III等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)
Orion III等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)可適用于單個基片、碎片或帶承片盤的基片(2”- 300mm尺寸)，為實驗室和試制線生產提供先進的沉積能力。
Orion III系統(tǒng)用于非發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物和無定形硅。工藝氣體：<20%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧和氮。
該設備可選配一個ICP或三極管（Triode）源。三極管使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應力。
通過打開室蓋，直接將基片裝入工藝室。
暫無數(shù)據(jù)！
化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)的工作原理介紹？化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)的使用方法？化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)多少錢一臺？化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)使用的注意事項化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)的說明書有嗎？化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)的操作規(guī)程有嗎？化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)的報價含票含運費嗎？化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)有現(xiàn)貨嗎？化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
