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• 化學(xué)分析用全自動(dòng)掃描X-射線光電子能譜儀

• 180°半球型電子高分辨率能量分析器以及適用于小面積分析的大角度電子接受系統(tǒng)

• ****的32通道檢測(cè)器和快捷的電子系統(tǒng)用于獲得**的靈敏度和數(shù)據(jù)采集

• 掃描單色聚焦9umX射線源用于快速化學(xué)狀態(tài)圖像

• 自動(dòng)雙束荷電(電子束和低能Ar離子束)補(bǔ)償系統(tǒng)

送

• 全自動(dòng)5軸(X， Y， Z， 旋轉(zhuǎn)，傾斜)，精密樣品臺(tái) 樣品臺(tái)可以準(zhǔn)確地移動(dòng)到100mm直徑樣品的任何一點(diǎn)

• 計(jì)算機(jī)控制的100 V到0. 5 kV氬離子槍用于樣品表面清洗以及深度剖面分析（包括Zalar Rotation功能）.

• 在做角分辨XPS分析時(shí)候可以自動(dòng)選擇大小接受角度

• 具有所有分析功能包括低分辨全范圍定性分析， 高分辨定量/化學(xué)狀態(tài)分析， 深度剖面分析，線掃描分析， 化學(xué)狀態(tài)圖像分析，自動(dòng)分析和用戶自己設(shè)定分析。

• PC 計(jì)算機(jī)RAM為1 Gb，硬盤為160 Gb， 軟盤， 可讀寫CD 以及彩色顯示器

• 數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)，如去除本地，平滑化處理， 峰識(shí)別， *小二乘法擬合， 多因子分析法，峰分離，從圖像，線掃描以及深度剖析分析中抽出多種化學(xué)狀態(tài)峰

• UHV可兼容不銹鋼分析室

• 360 l/s離子本泵（帶有鈦升華泵），自動(dòng)烘烤系統(tǒng)

• 操作說明書和維修手冊(cè)，工具箱.

• 軟件MS Office Professional (英語(yǔ)版).

• 操作用椅

• 操作桌子

• 打印機(jī)

注: Ulvac-phi將不提供噴墨打印機(jī)但是在出廠前將通知所用噴墨打印機(jī)型號(hào)。

技術(shù)參數(shù)：

聚焦掃描式微區(qū)X射線光電子能譜儀

技術(shù)資料

設(shè)備規(guī)格以及供貨范圍

A. 技術(shù)指標(biāo)

B. 安裝設(shè)置要求

C. 供貨范圍

設(shè)備型號(hào) PHI Quantera SXM

設(shè)備商標(biāo)Scanning X-ray Microprobe™

生產(chǎn)地點(diǎn) 日本和美國(guó)

檢測(cè)項(xiàng)目 指標(biāo)值

系統(tǒng)到達(dá)真空 <5x10-10 torr

Ag樣品XPS光電子能量分辨率 Ag 3d 5/2 峰半高寬 FWHM < 0.50 eV

PET 樣品XPS光電子能量分辨率 C1s的O=C-O峰半高寬 FWHM < 0.85 eV

*小X射線斑束 <9.0μm 在x 方向

<9.0μm 在y 方向

常用X射線斑束

<10.0 μm @ <1.25 watts

<15.0 μm @ <2.50 watts

<20.0 μm @ <4.50 watts

X-ray XPS靈敏度和能量分辨率 X-ray Beam Energy Sens. Size Res.

> 15kcps <10.0 μm <0.60 eV

> 30kcps <15.0 μm <0.60 eV

> 55kcps <20.0 μm <0.60 eV

> 35kcps <10.0 μm <1.00 eV

> 70kcps <15.0 μm <1.00 eV

> 125kcps <20.0 μm <1.00 eV

>3Mcps High <1.30eV Power Mode

離子槍 **電流 >5.0 μA @ 5 kV

離子槍工作時(shí)候分析室內(nèi)壓力 < 5x10-8 torr

主要特點(diǎn)：

B: 供貨范圍

PHI Quantera SXM Scanning XPS Microprobe

化學(xué)分析用全自動(dòng)掃描X-射線光電子能譜儀

• 掃描單色聚焦9umX射線源用于快速化學(xué)狀態(tài)圖像

• ****全自動(dòng)快速進(jìn)樣系統(tǒng) 75mm方形樣品臺(tái)，自動(dòng)數(shù)碼照相定位系統(tǒng)，自動(dòng)樣品臺(tái)進(jìn)樣和傳