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        RELION CL VI陰極發(fā)光儀
        RELION CL VI陰極發(fā)光儀

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        型號(hào)

        品牌

        產(chǎn)地

        美國(guó)

        樣本

        暫無
        北京美嘉圖科技有限公司

        會(huì)員

        |

        第2年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

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        RELION VI 陰極發(fā)光儀

        高真空技術(shù)和全構(gòu)造材料設(shè)計(jì),保證了真空度和使用安全,通常1分鐘內(nèi)能夠迅速達(dá)到工作需要的真空度100毫托的實(shí)驗(yàn)條件,并可快速更換樣品,一般該儀器**束流設(shè)定為額定2mA,**電子束壓可達(dá)到30KV的高壓。水平式激發(fā)冷陰極電子束,通過磁鐵轉(zhuǎn)變電子束的方向,使它照射在測(cè)試樣品上;眾所周知,在物理學(xué)上講,磁鐵只轉(zhuǎn)換電子束的方向,不會(huì)產(chǎn)生能量的損失。這樣工作的方式是實(shí)現(xiàn)冷陰極非常有效的條件,可獲得**的視野效果和有效的高亮度圖像。并可調(diào)整散焦到點(diǎn)聚焦連續(xù)調(diào)節(jié),即調(diào)節(jié)電子束流和束壓,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了真空樣品室裝置便捷地安裝在顯微鏡載物臺(tái)上,并根據(jù)使用的物鏡倍數(shù)及不同型號(hào)顯微鏡使用時(shí),可快速地更換標(biāo)準(zhǔn)觀察窗和高倍數(shù)物鏡準(zhǔn)備的Reentrant Window觀察窗。通常的薄片樣品既可直接使用,無需進(jìn)一步處理,既可使用薄樣品也可以使用厚樣品。還可將分析附件擴(kuò)展為EDX分析儀對(duì)樣品進(jìn)行半定量分析,同時(shí)還可以與微區(qū)取樣儀MICRODRILL SAMPLING結(jié)合使用,并可做圖像精確定位,以便準(zhǔn)確取樣。

        原理 :

        電子束轟擊到樣品上,激發(fā)樣品中發(fā)光物質(zhì)產(chǎn)生熒光,又稱陰極發(fā)光。實(shí)驗(yàn)證明,陰極射線致發(fā)光現(xiàn)象多是由于礦物中含雜質(zhì)元素或微量元素(激活劑),或者是礦物晶格內(nèi)有結(jié)構(gòu)缺陷引起的,這是礦物陰極射線致發(fā)光的兩種主要解釋。礦物內(nèi)的激活劑包括金屬元素(Eu2十、Srn +、時(shí)十、IV +、 Ea3十)以及過渡金屬元素(mw十、Fe3+, c a 干、V3十、Tia+),與激活劑相對(duì)應(yīng)能抑制礦物發(fā)光的物質(zhì)叫碎滅劑,如Co干,Nl-2+,F(xiàn) e2+、Tie十等。

        技術(shù)特點(diǎn):

        眾所周知,在物理學(xué)上講,磁鐵只轉(zhuǎn)換電子束的方向,不會(huì)產(chǎn)生能量的損失。這樣工作的方式是實(shí)現(xiàn)冷陰極非常有效的條件,可獲得**的視野效果和有效的高亮度圖像。并可調(diào)整散焦到點(diǎn)聚焦連續(xù)調(diào)節(jié),即調(diào)節(jié)電子束流和束壓,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了真空樣品室裝置便捷地安裝在顯微鏡載物臺(tái)上,并根據(jù)使用的物鏡倍數(shù)及不同型號(hào)顯微鏡使用時(shí),通常的薄片樣品既可直接使用,無需進(jìn)一步處理,既可使用薄樣品也可以使用厚樣品。還可將分析附件擴(kuò)展為EDX分析儀對(duì)樣品進(jìn)行半定量分析,同時(shí)還可以與微區(qū)取樣儀MICRODRILLSAMPLING結(jié)合使用,并可做圖像精確定位,以便準(zhǔn)確取樣。

        圖片:

        鋯石,左邊是透射圖像,右邊是陰極發(fā)光圖像。

        霞石正長(zhǎng)巖的CL

        流紋巖中石英和長(zhǎng)石的CL

        規(guī)格參數(shù)

        電源:220V,50-100Hz 交流電源

        使用環(huán)境:溫度<30℃、濕度<60%

        真空樣品室:帶有上下含鉛玻璃窗,底部窗口用于顯微鏡透射光使用,上部窗口用于觀察陰極發(fā)光。帶有精密真空控制閥真空復(fù)合管,自動(dòng)排氣閥,手動(dòng)排氣閥,樣本抽屜;室內(nèi)備有顆粒狀的樣品架、平板式樣品架、托盤支架,密封圈等易更換。真空室上端帶Reentrant Window觀察窗,*短工作距離為5-7mm,以備50X等高倍數(shù)物鏡使用。

        樣品托盤:可同時(shí)安裝三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的薄片。無需調(diào)節(jié)樣品托盤,就能檢測(cè)松散顆粒、芯片或方塊狀樣本;

        真空系統(tǒng):高性能真空泵,具有前級(jí)板門和去霧器,這兩者可用標(biāo)準(zhǔn)件替換。真空軟管帶有兩個(gè),用于向真空室傳遞時(shí)減小振動(dòng)。

        真空度:**極限為0.25帕,**限度保護(hù)樣品。

        電子槍:電子槍是一種水平式冷陰極電子束射線型,高達(dá)30 KV,通常使用在5 KV至25 KV之間調(diào)節(jié)。

        陰極電壓:0-30KV,過壓保護(hù)。

        **電流:0.15-1mA,連續(xù)可測(cè),過流保護(hù)。**束流可到5mA。

        聚焦:能夠散聚焦到點(diǎn)聚焦的調(diào)節(jié)功能,電子束光斑可根據(jù)樣品適用要求調(diào)節(jié)。

        數(shù)字顯示:電壓、電流、真空度、自動(dòng)/手動(dòng)操作模式及儀器狀態(tài)、高壓開啟、電子槍輸出極限等等。

        顯微鏡要求:適合多種不同型號(hào)的顯微鏡,在物鏡和載物臺(tái)之間,必須為真空室的高度保留足夠空間。通常使用長(zhǎng)工作距離的物鏡及聚光鏡即可實(shí)現(xiàn)空間的需求。

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        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
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