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在高精度薄膜分析的膜厚測(cè)量?jī)x基礎(chǔ)上,增加安裝了自動(dòng)角度調(diào)節(jié)裝置,實(shí)現(xiàn)高速的薄膜測(cè)量和高精度的化學(xué)常數(shù)解析。可拆卸緩速器和旋轉(zhuǎn)分析儀也拓寬了測(cè)量的選擇范圍,提高了測(cè)量精度。FE-5OOOS 雖然和FE-5000有相同的基本功能,但是價(jià)格低,體積小。膜厚測(cè)量?jī)x的用途也得到擴(kuò)大。
— 可對(duì)應(yīng)各種選配,膜厚的特制解析
測(cè)量項(xiàng)目:
-測(cè)量橢圓參數(shù)(TANψ,COSΔ)
-光學(xué)常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析
-薄膜厚度分析
應(yīng)用范圍:
半導(dǎo)體晶圓
柵氧化膜,氮化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN
光學(xué)常數(shù)(波長(zhǎng)色散)
復(fù)合半導(dǎo)體
AlxGa(1-x)多層膜、非晶硅
FPD
取向膜
等離子顯示器用ITO、MgO等
各種新材料
DLC(類金剛石碳)、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜
光學(xué)薄膜
TiO2,SiO2多層膜、防反射膜、反射膜
光刻領(lǐng)域
g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)和KrF(248nm)等波長(zhǎng)的n、k評(píng)估
原理
包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,對(duì)于反射光的橢圓偏振光進(jìn)行測(cè)量。s波和p波的位相和振幅獨(dú)立變化,可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
測(cè)量示例:
1)考慮到表面粗糙度測(cè)量膜厚度值[FE-0008]
當(dāng)樣品表面存在粗糙度(Roughness)時(shí),將表面粗糙度和空氣(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模擬為“粗糙層”,可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測(cè)量表面粗糙度為幾nm的SiN(氮化硅)的情況。
測(cè)量示例:
1)考慮到表面粗糙度測(cè)量膜厚度值[FE-0008]
當(dāng)樣品表面存在粗糙度(Roughness)時(shí),將表面粗糙度和空氣(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模擬為“粗糙層”,可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測(cè)量表面粗糙度為幾nm的SiN(氮化硅)的情況。
2)使用非干涉層模型測(cè)量封裝的有機(jī)EL材料[FE-0011]
有機(jī)EL材料易受氧氣和水分的影響,并且在正常大氣條件下它們可能會(huì)發(fā)生變質(zhì)和損壞。因此,在成膜后立即用玻璃密封。以下介紹在密封狀態(tài)下通過玻璃測(cè)量膜厚度的情況。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。
產(chǎn)品特點(diǎn):
-可分析納米級(jí)多層薄膜的厚度
-可在紫外和可見(250至800nm)波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行橢偏測(cè)量
-可通過超過400ch的多通道光譜快速測(cè)量Ellipso光譜
-通過可變反射角測(cè)量,可詳細(xì)分析薄膜
-通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫和追加菜單注冊(cè)功能,增強(qiáng)操作便利性
-通過層膜貼合分析的光學(xué)常數(shù)測(cè)量可控制膜厚度/膜質(zhì)量
*1可以驅(qū)動(dòng)偏振器,可以分離不感帶有效的位相板。*2取決于短軸•角度。*3對(duì)應(yīng)微小點(diǎn)(可選)*4它是使用VLSI標(biāo)準(zhǔn)SiO2膜(100nm)時(shí)的值。*5可以在此波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行選擇。*6光源因測(cè)量波長(zhǎng)而異。*7選擇自動(dòng)平臺(tái)時(shí)的值。
暫無數(shù)據(jù)!