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NIE-3000 (C) 離子束清洗系統產品概述：該系統為手動放片取片，但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統產品特點：
低成本
離子束：高達2KV/10mA
離子電流密度100-360uA/cm2
離子束直徑：4"，5"，6"
兼容反應及非反應氣體(Ar， O2， CF4，Cl2)
極限真空5x10-7Torr
260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵
14"不銹鋼或鋁質腔體
水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
自動上下載片（NIE-3500）
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
占地面積30"x30"
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統產品應用：
表面處理
離子銑
表面清洗
帶活性氣體的離子束刻蝕： 光柵刻蝕，以及SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統 Features：
Low Cost
Ion Beam: Up to 2KV/10mA
Ion Current Density 100-360 μA/cm2
Ion Beam Size: 4”， 5”， 6”
Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar， O2， CF4，Cl2)
Base Pressure 5x10-7 Torr
260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump
14” SS or Al Chambers
Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)
Auto Load and Unload (NIE-3500)
PC Controlled with LabVIEW Software
Footprint 30”x30”
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統 Applications：
Surface Cleaning
Surface Treatment
Ion Beam Milling
Ion Beam Etching with Reactive Gases:
Grating
Deep Trenches on SiO2， Si and metals
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