參考價格
1-5萬元型號
CRF-APO-RP1020-D品牌
誠峰智造產(chǎn)地
廣東深圳樣本
暫無工作原理:
立式全容積(m3):
30能耗:
20處理量:
100物料類型:
其它看了納米防爆膜優(yōu)質(zhì)等離子清洗機的用戶又看了
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噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-RP1020-D
名稱(Name)
噴射型AP等離子處理系統(tǒng)
型號(Model)
CRF-APO-RP1020-D
電源(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率(Power)
1000W/25KHz
處理高度(Processing height)
5-15mm
處理寬幅(Processing width)
20-80mm(Option)
內(nèi)部控制模式(Internal control mode)
數(shù)字控制
外部控制模式(External control mode)
RS485/RS232數(shù)字通訊口、
模擬量控制口
工作氣體(Gas)
Compressed Air (0.4mpa)
產(chǎn)品特點:可選配多種類型噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;
具有RS485/232數(shù)字通訊口和模擬量控制口,滿足客戶多元化需求。
設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;
可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;
使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
應用范圍:主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
低溫等離子體技術(shù)解決利用三種方法環(huán)境工程污水
三種低溫等離子體處理環(huán)境工程污水的方法
利用低溫等離子體技術(shù)處理環(huán)境工程污水,可在高能電子輻射、臭氧氧化、紫外光分解等多種方法的共同作用下,達到較好的處理效果。
高能電子作用:
低溫等離子技術(shù)在污水處理過程中產(chǎn)生大量的高能電子,通過與廢水中的原子和分子的碰撞,將能量轉(zhuǎn)化為基體分子的內(nèi)能,通過激發(fā)、分解、電離等多個過程活躍廢水。
新的化合物是通過分解廢水中的分子鍵,并與游離氧和臭氧等活性因子發(fā)生反應而形成的。然后,Z將有毒物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無毒物質(zhì),并在原污水中降解污染物。
臭氧氧化作用:
在污水處理過程中,臭氧作為強氧化劑,使有害物質(zhì)化合,形成某些中間產(chǎn)物,減少了原污水的毒性和有害物質(zhì)的含量,經(jīng)過幾次反省,終將受污染物質(zhì)的有機物質(zhì)分解成二氧化碳和水。對無機物質(zhì),可形成一定的氧化物進行脫除;
紫外光分解作用:
利用低溫等離子技術(shù),紫外線照射可以單獨分解有害物質(zhì),也可以與臭氧聯(lián)合分解。分離分解作用主要是有害的分子物質(zhì)通過吸收光子進入激發(fā)狀態(tài),通過吸收能量使分子的分子鍵斷裂,然后與水中的游離物質(zhì)發(fā)生反應,生成新的化合物釋放。
紫外線和臭氧的氧化可以同時處理難降解物質(zhì),效果更好。難降解有機物和殺蟲劑都能被快速分解。
暫無數(shù)據(jù)!