參考價(jià)格
1-5萬(wàn)元型號(hào)
CRF-APO-500W-C/W-S品牌
誠(chéng)峰智造產(chǎn)地
廣東深圳樣本
暫無(wú)能耗:
600W/25KHz處理量:
不限物料類(lèi)型:
其它工作原理:
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貼片電阻等離子表面處理機(jī)電話(huà):誠(chéng)峰智造
自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-C/W-S
名稱(chēng)(Name)
自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)
型號(hào)(Model)
CRF-APO-500W-C/W-S
電源(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
等離子功率(Plasma power)
2set*600W/25KHz(Option)
處理寬幅(Processing width)
500mm(Option)
有效處理高度(Processing height)
5-15mm
處理速度(Processing speed)
0-5m/min
傳動(dòng)方式(Drive mode)
防靜電絕緣傳送帶(Antistatic insulating conveyer)
防靜電絕緣滾輪(Antistatic insulation wheel)
噴頭數(shù)量(Number)
2(Option)
工作氣體(Gas)
Compressed Air(0.4mpa)
自動(dòng)化裝置(Automation device)
全自動(dòng)上下料(Automatic loading and unloading)
產(chǎn)品特點(diǎn): 帶有自動(dòng)上下料裝置,實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化生產(chǎn),設(shè)備優(yōu)化升級(jí),節(jié)省人工,降低成本;
配置PLC+觸摸屏控制方式,采用精準(zhǔn)運(yùn)動(dòng)模組,操作簡(jiǎn)便;
可選配噴頭數(shù)量,滿(mǎn)足客戶(hù)多元化需求;
配置專(zhuān)業(yè)集塵系統(tǒng),保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈。
應(yīng)用范圍:主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
自動(dòng)真空等離子清洗機(jī)支持手動(dòng)和自動(dòng)操作,等離子清洗機(jī)的體積和專(zhuān)有等離子工藝控制實(shí)現(xiàn)了的短周期,采用專(zhuān)有研發(fā)系統(tǒng)可在數(shù)秒內(nèi)達(dá)到對(duì)室功率**。
自動(dòng)真空等離子清洗機(jī)支持手動(dòng)和自動(dòng)操作(內(nèi)置處理程序),特別均勻、緊湊的空腔設(shè)計(jì)允許可互換的處理結(jié)構(gòu)和等離子模式,三軸對(duì)稱(chēng)等離子體室保證產(chǎn)品在所有位置均可進(jìn)行均勻處理,同時(shí)對(duì)所有工藝參數(shù)進(jìn)行嚴(yán)格控制,保證產(chǎn)品與其可重復(fù)使用。
同時(shí)其緊湊的結(jié)構(gòu)**限度地減少了占用空間的需求。一般結(jié)構(gòu)可以處理多種產(chǎn)品形態(tài)因素,包括FPC、PCD、載體、條帶、層壓板和芯片。自動(dòng)真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)可配置成單個(gè)和多個(gè)帶狀或帶狀框架、晶圓加工處理,這取決于產(chǎn)量和產(chǎn)品形式的要求。該系統(tǒng)能自動(dòng)恢復(fù)等離子體就緒狀態(tài),補(bǔ)償真空壓力,溫度變化和不同批次尺寸。利用一種專(zhuān)用的技術(shù),可在數(shù)秒內(nèi)達(dá)到**功率,并可連續(xù)測(cè)量出內(nèi)腔的前進(jìn)和反射功率。
自動(dòng)真空等離子清洗機(jī)特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn):
1、易于集成各種工藝設(shè)備,包括線焊,貼片,配料,模具和標(biāo)記。
2、獨(dú)立的結(jié)構(gòu),它占用的空間小。
3、緊湊的三軸對(duì)稱(chēng)室和專(zhuān)有的工藝控制。
4、處理速度快,應(yīng)用范圍廣,處理周期短。
等離子體處理系統(tǒng)符合先進(jìn)半導(dǎo)體及電子封裝等離子體清洗及處理的標(biāo)準(zhǔn)配置。大型等離子系統(tǒng)是專(zhuān)為處理大型基片而設(shè)計(jì)的,有高容量的等離子體室,即235升,標(biāo)準(zhǔn)容量的幾倍。
暫無(wú)數(shù)據(jù)!