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            ICCS 催化劑原位表征系統(tǒng)
            ICCS 催化劑原位表征系統(tǒng)

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            型號

            ICCS

            品牌

            麥克儀器

            產(chǎn)地

            美國

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            暫無
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              /
            • 測量時間:

              45分鐘-60分鐘
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              /
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            ICCS-催化劑原位表征系統(tǒng)

            ICCS催化劑原位表征系統(tǒng)是美國麥克儀器推出的新一代催化劑原位表征系統(tǒng),與其它動態(tài)實驗室反應(yīng)器系統(tǒng)(如麥克儀器的微型反應(yīng)器Micro-Activity Effi和Solo)不同,它在現(xiàn)有反應(yīng)系統(tǒng)的基礎(chǔ)上增加了兩項關(guān)鍵的表征技術(shù)--程序升溫分析(TPx)和脈沖化學(xué)吸附,此外還可以通過選配相應(yīng)的配置進行物理吸附。用戶可以使用ICCS在新鮮催化劑上進行這些重要的表征技術(shù),且無需從反應(yīng)器中取出催化劑可直接進行重復(fù)測試。對同一個樣品既可進行反應(yīng)研究,又可同時獲得TPx和脈沖化學(xué)吸附的數(shù)據(jù),實現(xiàn)了對催化劑的原位表征,為催化研究提供了新的表征工具。進行這種原位分析,可消除環(huán)境中氣體或水分污染催化劑的可能,避免損壞活性催化劑和破壞反應(yīng)后表征數(shù)據(jù)的相關(guān)性。

            ICCS催化劑原位表征系統(tǒng)技術(shù)

            ICCS常規(guī)測試流程包括:將催化劑裝入ICCS的反應(yīng)器系統(tǒng)中,接下來可選擇TPx方法表征催化劑。在TPx分析中,程序升溫還原(TPR)常用于負(fù)載型金屬催化劑,程序升溫脫附(TPD)常用于酸堿催化劑。在TPx之后通常進行脈沖化學(xué)吸附,以確定催化劑活性位點的數(shù)量。通過TPx和脈沖滴定可以獲得新鮮催化劑在典型反應(yīng)條件下(特別是在高壓下)的信息。

            進行了上述表征后,用戶無需額外添加或轉(zhuǎn)移催化劑,可以直接繼續(xù)對相同的催化劑樣品進行反應(yīng)研究。

            長時間使用后的催化劑可以采用與新鮮催化劑相同的條件進行相同的TPx和脈沖化學(xué)吸附分析。無需從反應(yīng)器中取出催化劑,就可比較反應(yīng)前后催化劑的關(guān)鍵特性,如活性位點數(shù)目。

            ICCS催化劑原位表征系統(tǒng)主要特點及優(yōu)勢

            ICCS催化劑原位表征系統(tǒng)可以在高溫高壓的反應(yīng)條件下對催化劑、催化劑載體和其他材料進行原位表征,有效排除環(huán)境中的干擾。

            兩個高精度的質(zhì)量流量計可以精確、全自動地控制氣體流量,保證TPx和脈沖化學(xué)吸附的精確分析。

            原位測試,可對同一催化劑樣品進行多種表征。

            高精度的熱導(dǎo)檢測器(TCD)可以實時檢測流經(jīng)樣品管前后的氣體的細(xì)微濃度變化。

            具有直觀的軟件和圖形界面,通過觸摸屏可進行安全警報,命令,控制參數(shù)等一系列操作。

            控溫區(qū)內(nèi)不銹鋼管線提供了惰性和穩(wěn)定的運行環(huán)境,避免管路中的冷凝。兩個內(nèi)部溫度控制區(qū)可以獨立運行。

            內(nèi)置可控溫的冷阱,用于去除冷凝物(如氧化物還原過程中產(chǎn)生的水)。

            超小的內(nèi)部管路體積,可很大程度地減少峰展寬并顯著提高峰分辨率。

            防腐檢測器燈絲,可兼容TPx和脈沖化學(xué)吸附中常用氣體。

            交互式峰編輯軟件使用戶能快速方便地評估結(jié)果,編輯峰并得到報告。只需要簡單的指向和點擊就可調(diào)整峰邊界。

            催化劑原位表征系統(tǒng)分析能力

            ICCS催化劑原位表征系統(tǒng)能夠進行一系列化學(xué)吸附和程序升溫反應(yīng)的原位表征,可量化催化劑及載體的各項關(guān)鍵屬性,便于研究催化劑活性、選擇性、失活、中毒和再生的過程。

            脈沖化學(xué)吸附可獲得以下信息:

            金屬表面積

            金屬分散度

            平均金屬顆粒尺寸

            活性位點數(shù)目

            TPx技術(shù)應(yīng)用舉例:

            研究催化劑再生(程序升溫氧化,TPO)

            研究吸附強度(TPD)

            ?評估金屬催化劑中助劑對金屬與載體間相互作用的影響(TPR)

            表征物理吸附可獲得材料的表面積(選項)。

             

            催化劑原位表征系統(tǒng)符合以下規(guī)定及標(biāo)準(zhǔn)

             

            PED – Directive 2014/68/UE

            壓力設(shè)備指令(PED)

            該設(shè)備符合歐盟和西班牙的相應(yīng)壓力設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)2014/68/UE和RD 709/2015,并通過了相關(guān)設(shè)計、制造和評估的適用法規(guī)。

            設(shè)備出廠時將根據(jù)現(xiàn)行規(guī)定打上標(biāo)記。

            EMC – Directive 2014/30/UE

            電磁兼容性指令(EMC)

            根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)EN 61326進行EMC抗擾性測試

            根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)EN 61326進行EMC排放測試

            LVD – Directive 2014/35/UE

            低壓指令(LVD)

            根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)EN 61010-1進行電氣安全測試

            ATEX – Directive 2014/34/UE

            用于潛在爆炸性環(huán)境(ATEX)中的設(shè)備和防護系統(tǒng)

            請勿在潛在爆炸性環(huán)境中使用本設(shè)備

            RoHS – Directive 2011/65/UE

            有害物質(zhì)限制

             

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            Micromeritics 是提供表征顆粒、粉體和多孔材料的物理性能、化學(xué)活性和流動性的全球高性能設(shè)備生產(chǎn)商。我們能夠提供一系列行業(yè)前沿的技術(shù),包括比重密度法、吸附、動態(tài)化學(xué)吸附、壓汞技術(shù)、粉末流變技術(shù)、催化劑活性檢測和粒徑測定。


            公司在美國、英國和西班牙均設(shè)立了研發(fā)和生產(chǎn)基地,并在美洲、歐洲和亞洲設(shè)有直銷和服務(wù)業(yè)務(wù)。Micromeritics 的產(chǎn)品是全球具有創(chuàng)新力的知名企業(yè)、政府和學(xué)術(shù)機構(gòu)旗下 10,000 多個實驗室的優(yōu)選儀器。我們擁有專業(yè)的科學(xué)家隊伍和響應(yīng)迅速的支持團隊,他們能夠?qū)?Micromeritics 技術(shù)應(yīng)用于各種要求嚴(yán)苛的應(yīng)用中,助力客戶取得成功。




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            2020-02-28

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