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        高效半導(dǎo)體硅片精密研磨工藝優(yōu)化研究

        編號:NMJS09355

        篇名:高效半導(dǎo)體硅片精密研磨工藝優(yōu)化研究

        作者:謝東元

        關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 硅片 精密研磨 工藝

        機(jī)構(gòu): 上海漢虹精密機(jī)械有限公司

        摘要: 隨著我國新能源汽車、軌道交通及航空航天等行業(yè)的迅猛發(fā)展,對高端電子元器件的性能及市場需求日益增長。隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展以及對高性能的需求,集成電路中的關(guān)鍵支撐材料如單晶硅、碳化硅、氮化鎵等,均對其加工精度和表面質(zhì)量提出了更高的要求。本項(xiàng)目以半導(dǎo)體硅硅片為對象,以優(yōu)化研磨工藝為目標(biāo),以改善硅片的平坦度及表面質(zhì)量為目標(biāo),開展了高品質(zhì)半導(dǎo)體硅片精密研磨技術(shù)的研究。通過試驗(yàn)研究,討論了磨削潤滑劑、磨削工具、磨削工藝等因素對研磨加工質(zhì)量的影響。通過本項(xiàng)目的研究,提出了一種新的高效、低成本、低成本的新方法。

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