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        復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司

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        原子層沉積(ALD)工藝揭秘:從效率、溫度到涂層類(lèi)型的全方位探討

        原子層沉積(ALD)工藝揭秘:從效率、溫度到涂層類(lèi)型的全方位探討
        復(fù)納科技  2024-01-17  |  閱讀:1739

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        在上篇文章中,我們結(jié)合具體案例為大家介紹了原子層沉積技術(shù)的概念、原理和特點(diǎn)。


        還有很多朋友提問(wèn)化學(xué)氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)的區(qū)別,我們從反應(yīng)效率、均勻性以反應(yīng)溫度三方面來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。


        在化學(xué)氣相沉積( CVD) 中,前驅(qū)體被同時(shí)且連續(xù)地引入反應(yīng)器中,這些前驅(qū)體在熱基材表面相互反應(yīng)。沉積速度可能比 ALD 更高,但涂層的粘附性較差,不夠致密,而且不均勻。


        由于 CVD 缺乏自鈍化作用,因此也不可能形成均勻的高深寬比涂層。CVD 工藝由于在溝槽或孔內(nèi)前驅(qū)體濃度較低,導(dǎo)致厚度比基材表面低得多。CVD 通常還需要較高的襯底溫度。


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        ALD有更好的臺(tái)階擴(kuò)散性和溝槽涂層均勻性

        本篇文章我們將繼續(xù)從效率、溫度涂層類(lèi)型全方位揭秘原子層沉積技術(shù),歡迎對(duì)原子層沉積技術(shù)感興趣的朋友們和我們一起交流探討。


        Part1

        原子層沉積工藝的效率

        眾所周知,原子層沉積(ALD )工藝的生長(zhǎng)過(guò)程相當(dāng)緩慢,大約每 cycle 1 個(gè)原子層需要 1s左右。然而,一些變體要快得多,特別是快速優(yōu)化的流動(dòng)反應(yīng)器(1-5 nm/秒)和空間 ALD(1-10 nm/秒)。


        然而,由于 ALD 工藝固有的自鈍化特性,可以將數(shù)千個(gè)基材裝入反應(yīng)器中,從而使每個(gè)零件的涂覆速度極快、均勻且可重復(fù)!或者,可以使用卷對(duì)卷 ALD,其中當(dāng)使用許多涂布頭時(shí),卷速可以很高(與空間 ALD 相比)。


        但當(dāng) ALD 應(yīng)用于粉末等高比表面積基底時(shí),由于吹掃需要消耗大量時(shí)間,因此每個(gè) cycle 的生長(zhǎng)時(shí)間會(huì)更長(zhǎng),甚至長(zhǎng)達(dá) 1 小時(shí)。


        Part2

        原子層沉積需要的溫度

        在 ALD 中,適合沉積的基板溫度范圍為室溫至 800℃,但大多數(shù)沉積發(fā)生在 100-200℃ 左右。當(dāng)溫度高于 100°C 時(shí),通常用作反應(yīng)物之一的水蒸氣會(huì)從基板和壁上快速蒸發(fā),因此使用高于 100°C 的溫度,前驅(qū)體之間的循環(huán)速度會(huì)更快。


        在高溫下,某些材料可以實(shí)現(xiàn)外延生長(zhǎng)。若沉積層與基底晶型匹配,即可形成單晶涂層,這就是所謂的原子層外延!


        Part3

        原子層沉積工藝支持的涂層類(lèi)型

        技術(shù)行業(yè)和學(xué)術(shù)界對(duì)可用于 ALD 的材料進(jìn)行了廣泛的研究,該列表每年都會(huì)不斷更新。以下是我們?yōu)槟x可使用的材料:


        1氧化物:Al2O3、CaO、CuO、Er2O3、Ga2O3、 HfO2、La2O3、MgO、Nb2O5、Sc2O3、SiO2 、Ta2O5、TiO2、VXOY、Y2O3、Yb2O3、ZnO 等


        2氮化物:AlN、GaN、TaNX、TiAlN、TiNX 等


        3碳化物:TaC、TiC 等


        4金屬:Ir、Pd、Pt、Ru 等


        5硫化物:ZnS、SrS 等


        6氟化物:CaF2、LaF3、MgF2、SrF2等


        7生物材料:Ca10(PO4)6(OH)2(羥基磷灰石)等


        8聚合物:PMDA–DAH、PMDA–ODA 等


        還可以使用 ALD 進(jìn)行摻雜和混合不同的結(jié)構(gòu),形成金屬有機(jī)雜化物。


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        ALD 涂層配方(彩色部分為主體元素可形成的化合物)


        關(guān)于 Forge Nano 

        Forge Nano 專(zhuān)注于粉末原子層沉積技術(shù)(PALD),憑借其專(zhuān)有的 Atomic Armor? 技術(shù),能夠使產(chǎn)品開(kāi)發(fā)人員設(shè)計(jì)任何材料直至單個(gè)原子。Atomic Armor? 工藝生產(chǎn)的卓越表面涂層使合作伙伴能夠釋放材料的最佳性能,實(shí)現(xiàn)延長(zhǎng)壽命、提高安全性、降低成本和優(yōu)化產(chǎn)品的功能。其科學(xué)家團(tuán)隊(duì)與廣泛的商業(yè)合作伙伴合作開(kāi)發(fā)定制解決方案,能夠滿(mǎn)足任何規(guī)模的任何需求,包括從小規(guī)模研發(fā)、實(shí)驗(yàn)室級(jí)別到工業(yè)規(guī)模、大批量生產(chǎn)。

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