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        西安交大在電化學(xué)雙電極大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量石墨烯研究方面取得新進(jìn)展

        西安交大在電化學(xué)雙電極大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量石墨烯研究方面取得新進(jìn)展
        鴻凱智能  2019-08-26  |  閱讀:1850

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            石墨烯早已躍為二維層狀材料家族中的明星材料,其優(yōu)異的機(jī)械、電學(xué)、光學(xué)、力學(xué)性質(zhì)使其在光電、催化、傳感器、透明導(dǎo)電薄膜、柔性電子器件、能源儲(chǔ)存、防腐涂料、潤(rùn)滑、結(jié)構(gòu)增強(qiáng)、武器裝備、航天航空等領(lǐng)域展示出廣闊的應(yīng)用前景。目前,常用于制備石墨烯的方法有機(jī)械剝離法、液相剝離法、外延生長(zhǎng)法、化學(xué)氣相沉積法、化學(xué)還原氧化石墨烯等方法。


        電化學(xué)方法是在電場(chǎng)的作用下,通過(guò)陽(yáng)極氧化或者陰極還原石墨電極,驅(qū)動(dòng)電解液中的離子嵌入到石墨層中致使石墨結(jié)構(gòu)發(fā)生膨脹、層間相互作用力減弱并隨之產(chǎn)生剝離。與上述方法相比,電化學(xué)方法制備石墨烯具有設(shè)備簡(jiǎn)單、過(guò)程高效、環(huán)境相對(duì)友好、成本低廉、可控性強(qiáng)且制備周期短等優(yōu)點(diǎn),是一種有很大潛力的大規(guī)模生產(chǎn)石墨烯的方法。陽(yáng)極氧化法容易在石墨烯上產(chǎn)生大量氧化缺陷,陰極還原剝離能避免含氧基團(tuán)的生成,但制備的石墨烯產(chǎn)率并不高。目前學(xué)界對(duì)于電化學(xué)陽(yáng)極、陰極剝離石墨開(kāi)展了較多的探索研究,但迄今為止,使用電化學(xué)方法,尤其是陰陽(yáng)雙極同時(shí)剝離,仍然無(wú)法高效地制備高質(zhì)量、高產(chǎn)率的石墨烯。

         

        近日,西安交通大學(xué)先進(jìn)儲(chǔ)能電子材料與器件研究所徐友龍教授團(tuán)隊(duì)經(jīng)過(guò)系統(tǒng)的篩選和優(yōu)化,選用四丁基高氯酸銨/碳酸丙烯酯溶液為剝離電解液,并設(shè)計(jì)了金屬網(wǎng)包裹天然石墨的三明治結(jié)構(gòu)石墨電極,通過(guò)深入探究離子嵌入石墨產(chǎn)生剝離過(guò)程的機(jī)理,采用電化學(xué)和熱膨脹剝離相結(jié)合的方法,實(shí)現(xiàn)了陰陽(yáng)極同時(shí)制備高質(zhì)量的石墨烯。該方法制備的石墨烯不僅產(chǎn)率高(陰極:85%和陽(yáng)極:48%),而且石墨烯缺陷少(ID/IG<0.08)、氧化程度低(C/O原子比>18.4)、電導(dǎo)率優(yōu)異(>3×10S/m)。另外在實(shí)驗(yàn)室條件下使用大尺寸石墨電極(Φ=20cm, 厚度5mm)生產(chǎn)石墨烯的速度可以達(dá)到25 g/h,為規(guī)?;苽涓哔|(zhì)量石墨烯奠定了基礎(chǔ)。

              上述研究成果以《電化學(xué)陰陽(yáng)雙極同步剝離石墨宏量制備高質(zhì)量石墨烯》(Simultaneous Electrochemical Dual-Electrode Exfoliation of Graphite toward Scalable Production of High-Quality Graphene)為題發(fā)表在國(guó)際頂級(jí)期刊《先進(jìn)功能材料》(Advanced Functional Materials,影響因子IF: 15.621)。西安交通大學(xué)先進(jìn)儲(chǔ)能電子材料與器件研究所博士生張淵為本文第一作者,徐友龍教授為本文通訊作者。西安交通大學(xué)是本論文的唯一署名單位,標(biāo)志著西安交大在電化學(xué)法制備高質(zhì)量石墨烯研究方面取得新進(jìn)展。該工作得到陜西省重大研發(fā)計(jì)劃、“111引智計(jì)劃”(B14040)的資助以及西安交大分析測(cè)試中心的支持。

         徐友龍教授長(zhǎng)期致力于新型電解電容器、超級(jí)電容器、鋰/鈉離子電池材料與器件、納米材料的制備與應(yīng)用等領(lǐng)域的研究。以第一作者或通訊作者在國(guó)際著名期刊發(fā)表學(xué)術(shù)論文150多篇,其中三篇入選全球前1%“ESI”高引論文。


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