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為什么購買AccuSizer顆粒計數(shù)系統(tǒng)？

有太多理由讓您的下一個粒度分析儀選擇AccuSizer?系統(tǒng)

什么是ACCUSIZER系統(tǒng)

使用單顆粒光學(xué)傳感 （SPOS） 技術(shù)的顆粒計數(shù)器和粒度分析儀。具有多種配置可選，但所有系統(tǒng)都包括SPOS傳感器，脈沖高度分析儀（或計數(shù)器）和樣品流通池，用于通過傳感器傳輸樣品。許多樣品流通池自動將樣品稀釋至最佳濃度，以獲得最準(zhǔn)確的結(jié)果。在多達 1024 個粒徑通道中報告粒徑分布信息。

圖 1. 0.5 – 10um之間區(qū)分6個粒徑峰

它不是什么？

這不是像激光衍射那樣需要RI等物理特性和復(fù)雜的反卷積算法的集成技術(shù)。粒子直接定量并一次計數(shù)一個，提供比光散射技術(shù)更準(zhǔn)確和更高分辨率的結(jié)果。

這種技術(shù)的主要好處是什么？

•    準(zhǔn)確性

—直接測量每個顆粒

•    濃度

—出具準(zhǔn)確的顆粒/mL 結(jié)果

•    分辨率

—無分布增寬

— 將多個峰與基線區(qū)分（圖1）

— 檢測少量的尾部顆粒

圖2.LE400傳感器/計數(shù)器圖

在許多行業(yè)中，尾部顆粒檢測至關(guān)重要。如果主峰之外的幾個大顆粒對產(chǎn)品性能有害，為什么不使用對大顆粒計數(shù)（LPC）具有最高靈敏度的技術(shù)呢？AccuSizer SPOS系統(tǒng)在檢測少量尾部顆粒分布方面優(yōu)于激光衍射。AccuSizer SPOS系統(tǒng)集成了許多獨特的技術(shù)，包括：

•    自動稀釋、一步稀釋和多步稀釋。

•    傳感器技術(shù)

—消光+散射LE傳感器

—聚焦光束 FX Nano 傳感器，檢測下限低至 150 nm

•    根據(jù)您的流程定制的在線系統(tǒng)（AccuSizer Mini FX系統(tǒng)，圖3）

目前誰正在使用ACCUSIZER SPOS系統(tǒng)？

AccuSizer SPOS系統(tǒng)是檢測CMP研磨液尾部顆粒的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。制藥行業(yè)使用 AccuSizer 系統(tǒng)檢測脂肪乳中的大顆粒 （PFAT5）、USP<788>測試和蛋白質(zhì)聚集研究。噴墨墨水等等，不勝枚舉，在全球范圍內(nèi)的各行各業(yè)有數(shù)千臺安裝。

圖3. AccuSizer Mini FX系統(tǒng)。

ACCUSIZER SPOS 系統(tǒng)精確度？

創(chuàng)建粒度分布的最準(zhǔn)確方法是單獨測量每個顆粒。AccuSizer系統(tǒng)對通過傳感器檢測區(qū)域的每個顆粒進行粒徑檢測和計數(shù)，并一次構(gòu)建一個顆粒的分布。這將創(chuàng)建準(zhǔn)確、高分辨率的結(jié)果。圖4顯示了通過45μm篩網(wǎng)的樣品。藍色的線是AccuSizer SPOS系統(tǒng)測試結(jié)果，其清楚地顯示了尾端斷崖式的分布，而紅色的線是激光衍射結(jié)果，其顯示了廣的粒徑分布曲線，包括不存在的>100μm的顆粒。

圖4.AccuSizer系統(tǒng)一次構(gòu)建一個顆粒的分布，提供準(zhǔn)確的結(jié)果。

一項針對微電子行業(yè)發(fā)表的研究1顯示了AccuSizer SPOS系統(tǒng)與其他技術(shù)相比，其靈敏度和分辨率的表現(xiàn)。在二氧化硅、氧化物CMP研磨液體中加入在1 μm SiO2顆粒，測試不同技術(shù)在識別出1 μm SiO2顆粒能力的表現(xiàn)。據(jù)報道，AccuSizer系統(tǒng)的檢測限為0.07 mg/mL，而激光衍射技術(shù)的結(jié)果（C）為100 mg/mL，相差1428X（圖5）。

圖5.SiO2顆粒檢測研究。

顆粒濃度衍射分布

圖 6a.AccuSizer 系統(tǒng)對加標(biāo)了CMP的測試結(jié)果。

粒度分布

圖 6b.激光衍射對加標(biāo)CMP的測試結(jié)果。

在2013年進行的一項研究中，我們用1.36μm PSL標(biāo)準(zhǔn)品加標(biāo)至二氧化硅CMP研磨液，以確定檢測到尾部大顆粒所需的濃度。當(dāng)將 3.4 μL PSL 注入 250 mL 原液 CMP 研磨液中時，AccuSizer FX（POU） 系統(tǒng)可以檢測第二個群體峰（圖 6a）。2

圖6b顯示了采用激光衍射儀的方式首次檢測加標(biāo)峰的數(shù)據(jù)，360 μL加標(biāo)到4.3 mL原液CMP研磨液中。這表明SPOS和激光衍射法的檢測限差異為 615X。另外請注意，當(dāng)激光衍射結(jié)果最終檢測到加標(biāo)峰的存在時，它拓寬1.36μm PSL標(biāo)準(zhǔn)分布。

引用

1 Nichols, K., et. al., Perturbation Detection Analysis: A Method for Comparing Instruments That Can Measure the Presence of Large Particles in CMP Slurry, report published by BOC Edwards, Chaska, MN

2 Detecting Tails in CMP Slurries, Entegris, August 2019 https://www. entegris.com/content/dam/product-assets/accusizerspossystems/appnote-detecting-tails-cmp-slurries-10527.pdf