中國粉體網(wǎng)訊 近些年來,化學(xué)氣相沉積(CVD)單晶金剛石在電子學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用令人矚目,這得益于CVD單晶金剛石在生長技術(shù)和半導(dǎo)體摻雜技術(shù)上的進展。一直以來,成熟的襯底加工技術(shù)是半導(dǎo)體材料得以應(yīng)用的基礎(chǔ),其中超精密拋光作為晶圓襯[更多]
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