參考價(jià)格
5-10萬元型號(hào)
CMD2000品牌
IKN產(chǎn)地
德國(guó)樣本
暫無能耗:
0-40處理量:
300-40000物料類型:
其它工作原理:
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串聯(lián)高剪切研磨分散機(jī),德國(guó)IKN串聯(lián)研磨分散機(jī),高速串聯(lián)研磨分散機(jī),立式串聯(lián)高剪切研磨分散機(jī),管線式串聯(lián)高剪切研磨分散機(jī),工業(yè)串聯(lián)高剪切研磨分散機(jī),醫(yī)藥串聯(lián)高剪切研磨分散機(jī),化工串聯(lián)高剪切研磨分散機(jī),食品串聯(lián)高剪切研磨分散機(jī)
IKN研磨分散機(jī)采用整體式機(jī)械密封,zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
工藝應(yīng)用:
☆食品纖維類物料的濕法超細(xì)破碎與均質(zhì) ☆可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解
☆動(dòng)物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工 ☆不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散
☆不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散 ☆納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散
研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì):
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力。
更可靠 采用整體式機(jī)械密封,zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國(guó)際先進(jìn)的受控切割技術(shù),將物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%
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采用整體式機(jī)械密封,zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力。
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機(jī),防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機(jī),納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機(jī),連續(xù)式納米二氧化硅分散機(jī),在線式納米二氧化硅分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口分散機(jī),在線式分散機(jī)IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復(fù)合物,具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國(guó)柏林化學(xué)公司在上世紀(jì)七十年代開發(fā)上市,在歐美等國(guó)家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國(guó)衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相,另一相液體則稱為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球(microspheres)是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實(shí)體,其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
在乳劑藥品如軟膏、乳霜等的整個(gè)生產(chǎn)過程中——必須按照嚴(yán)格的產(chǎn)品衛(wèi)生或無菌級(jí)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行管控。各種原料必須在受控、安全和可重復(fù)的條件下以定量的方式進(jìn)行均質(zhì)、加熱、冷卻、滅菌與填充。生產(chǎn)系統(tǒng)必須包含在線清洗(
一種分散乳化一體機(jī)
石墨粉液相剝離制備石墨烯,石墨烯液相剝離制備石墨烯,石墨粉液相剝離 石墨高速研磨分散目前,已經(jīng)有很多制備石墨烯的方法,整體上可以分為 自下而上和自上而下兩類。自上而下途徑是從石墨出發(fā)(又可
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