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        氫氧化鎂阻燃劑分散機(jī)
        氫氧化鎂阻燃劑分散機(jī)

        參考價(jià)格

        10-20萬元

        型號(hào)

        CMD2000/4

        品牌

        IKN

        產(chǎn)地

        德國

        樣本

        暫無
        上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

        金牌會(huì)員

        |

        第14年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

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        核心參數(shù)
        • 能耗:

          4KW
        • 處理量:

          300-1000L/H
        • 物料類型:

          粉狀
        • 工作原理:

          立式
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        氫氧化鎂阻燃劑分散機(jī),氫氧化鋁阻燃劑分散機(jī),阻燃劑分散機(jī),氫氧化鋁分散機(jī),氫氧化鎂阻燃劑研磨分散機(jī),上海依肯阻燃劑分散機(jī),轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,二級(jí)工作組,膠體磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,粒徑更小,分散更均勻。

        隨著高分子材料工業(yè)的發(fā)展,塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領(lǐng)域。但大部分高分子材料均易于燃燒,在很多應(yīng)用領(lǐng)域中,需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度,從而達(dá)到預(yù)防火災(zāi)、減緩火勢(shì)蔓延的密度。近年來,高分子阻燃技術(shù)受到全球性的關(guān)注阻燃劑以及成為僅此于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。

        作為重要的無極阻燃劑產(chǎn)品,氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環(huán)境友好、阻燃性強(qiáng)而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比,氫氧化鎂具有熱穩(wěn)定性高、成炭效率高和降酸能力強(qiáng)等特點(diǎn)。可以廣泛的應(yīng)用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。

        目前,氫氧化鎂阻燃劑的超細(xì)化、納米化是主要的研究方向。在高分子材料的加工溫度下,氫氧化鎂都是以顆粒狀存在于體系中,一般而言,填充量相同時(shí),氫氧化鎂的顆粒越細(xì),其分散越均勻,阻燃效果越明顯,對(duì)材料物理力學(xué)性能的負(fù)面影響越小,甚至還會(huì)起到剛性粒子增塑增強(qiáng)的效果。

        然而,要獲得超細(xì)的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備,傳統(tǒng)的分散設(shè)備,一方面無法將氫氧化鎂漿料進(jìn)一步細(xì)化,另一方分散效果不佳。上海IKN結(jié)合多家阻燃劑廠家,可知,采用IKNCMSD2000系列研磨分散機(jī)對(duì)氫氧化鎂漿料進(jìn)行進(jìn)一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻,包經(jīng)理18018542795。
         
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        IKN研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,先研磨后分散機(jī),因?yàn)闅溲趸V分散到水中或者溶劑當(dāng)中,會(huì)形成二級(jí)團(tuán)聚體,軟團(tuán)聚。需要先將團(tuán)聚體打開再進(jìn)行分散。IKN研磨分散機(jī)二級(jí)工作組,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,剪切力強(qiáng),分散更徹底。

        CMSD2000系列研磨分散設(shè)備是
        IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


        CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

        **級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
              


        第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

          
        CMSD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

        ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

        ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

        ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

        ④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

        ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

        氫氧化鎂阻燃劑分散機(jī),氫氧化鋁阻燃劑分散機(jī),阻燃劑分散機(jī),氫氧化鋁分散機(jī),氫氧化鎂阻燃劑研磨分散機(jī) 


        創(chuàng)新點(diǎn)

        IKN研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,先研磨后分散機(jī),因?yàn)闅溲趸V分散到水中或者溶劑當(dāng)中,會(huì)形成二級(jí)團(tuán)聚體,軟團(tuán)聚。需要先將團(tuán)聚體打開再進(jìn)行分散。IKN研磨分散機(jī)二級(jí)工作組,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,剪切力強(qiáng),分散更徹底。

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