參考價格
5-10萬元型號
CMXD2000品牌
IKN產地
德國樣本
暫無工作原理:
輥壓碾磨粉碎程度:
超細粉碎單位能耗:
0-10產量:
300-60000裝機功率(kw):
2.2成品細度:
0-0.2入料粒度(mm):
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納米金剛石微粉研磨分散機,高剪切研磨分散機,高速研磨分散機,碳原子研磨分散機,德國進口研磨分散機,不銹鋼研磨分散機,分散機廠家
金剛石微粉是指顆粒度細于36/54微米的金剛石顆粒,有單晶金剛石微粉和聚晶金剛石微粉。單晶金剛石微粉是由人造金剛石單晶磨粒,經過粉碎、整形處理,采用特殊的工藝方法生產。金剛石微粉硬度高、耐磨性好,可廣泛用于切削、磨削、鉆探等。是研磨拋光硬質合金、陶瓷、寶石、光學玻璃等高硬度材料的理想原料。金剛石微粉制品是利用金剛石微粉加工制成的工具和構件。
納米金剛石微粉可應用于醫(yī)療中心細胞分離,細胞染色等方面
利用納米金剛石,發(fā)明一種對活細胞探測的顯微成像技術
將納米金剛石嵌入隱形眼鏡以輸送藥物,此來治療青光眼
納米金剛石可像金屬銀、銅一樣有效殺除細菌,可在短時間內殺死細菌
納米金剛石是超活性吸附劑,和生物活性物定位劑,可極大增強藥物的療效
金剛石微粉用途
金剛石微粉廣泛用于機械、航天、光學儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質、**工業(yè)部門,是研磨拋光硬質合金陶瓷、寶石、光學玻璃等高硬材料的理想材料。
金剛石微粉規(guī)格
金剛石微粉一般為0-0.5微米金剛石微粉至6-12微米金剛石微粉用于拋光;10-15微米至22-36微米用于研磨;12-22微米以粗者用于精磨。
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上海依肯**研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。
納米金剛石微粉研磨分散機,高剪切研磨分散機,高速研磨分散機,碳原子研磨分散機,德國進口研磨分散機,不銹鋼研磨分散機,分散機廠家
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的特點:
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念,將先進的技術與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中,為設備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,**程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國際先進的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
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研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設備核心參數(shù):
設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
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CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到**允許量的10%
研磨分散機的應用領域:
1、精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
2、石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
3、農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑
4、生物醫(yī)藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
5、日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精
6、食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
7、涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土
8、造紙工業(yè)、紙漿、膠黏劑、松香分散、碳酸鈣、填料助劑、顏料混合、樹脂乳化
9、環(huán)境保護、廢水、污水處理、改質、回收利用
10、 其它:造紙、陶瓷泥釉、除銹劑、滑石粉
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親水性OX50納米二氧化硅分散液混合分散機,防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機,納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機,連續(xù)式納米二氧化硅分散機,在線式納米二氧化硅分散機,德國進口分散機,在線式分散機IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復合物,具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國柏林化學公司在上世紀七十年代開發(fā)上市,在歐美等國家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內相或非連續(xù)相,另一相液體則稱為分散介質、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球(microspheres)是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質中而形成的微小球狀實體,其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
在乳劑藥品如軟膏、乳霜等的整個生產過程中——必須按照嚴格的產品衛(wèi)生或無菌級標準進行管控。各種原料必須在受控、安全和可重復的條件下以定量的方式進行均質、加熱、冷卻、滅菌與填充。生產系統(tǒng)必須包含在線清洗(
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