參考價(jià)格
1-5萬(wàn)元型號(hào)
XRD-Mill品牌
Retsch產(chǎn)地
德國(guó)樣本
暫無(wú)粉碎程度:
超細(xì)粉碎單位能耗:
·產(chǎn)量:
·裝機(jī)功率(kw):
50w成品細(xì)度:
<1nm入料粒度(mm):
<0.5毫米看了球磨儀的用戶(hù)又看了
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XRD-Mill McCrone專(zhuān)為X射線(xiàn)衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone具有獨(dú)特的研磨方式:研磨塊的運(yùn)動(dòng)為線(xiàn)性撞擊和平面剪切兩種方式,所以研磨時(shí)間短,幾乎沒(méi)有樣品損失,得到特別窄的粒徑分布。
晶格在研磨過(guò)程中幾乎完全保留。
研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐,配一個(gè)無(wú)墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿(mǎn),材質(zhì)有瑪瑙,氧化鋯和剛玉。**的磨時(shí)間是在3-30分鐘,典型的樣品體積是在2-4 ml之間。
borides, clay, mica, nitrides, slate, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭
研磨過(guò)程中晶格被保留。
粒徑分布窄。
幾乎沒(méi)有交叉污染。
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運(yùn)行安靜。
應(yīng)用 | 搗磨、混和與研磨制樣;干磨或濕磨 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | X-ray diffraction |
樣品特征 | 中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的 |
**進(jìn)樣尺寸 | <0.5毫米 |
*終出料粒度 * | < 1 μm |
網(wǎng)頻50赫茲(60赫茲)下的轉(zhuǎn)速 | 1,000 - 1,500 min-1 4步 |
研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) | 1 |
典型粉碎時(shí)間 | 3 - 30 min |
干磨 | 是 |
濕磨 | 是 |
低溫研磨 | - |
研磨套件材料: | 瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石 |
研磨罐尺寸 | 125 ml |
粉碎時(shí)間設(shè)定 | 數(shù)字顯示,00:00:01 至 99:59:50 |
驅(qū)動(dòng) | DC-Motor |
驅(qū)動(dòng)功率 | 50W |
電源數(shù)據(jù): | 220-240 V, 50/60 Hz |
電源接頭: | 單相 |
防護(hù)類(lèi)型 | IP 30 |
接受功率 | 100W |
機(jī)體尺寸(寬x高x縱深) | 205 x 155 x 520 mm |
凈重 | ~19 kg |
標(biāo)準(zhǔn) | CE |
Please note:
受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響
XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排,每排6件。
在運(yùn)行過(guò)程中,罐子做圓周運(yùn)動(dòng),研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平(通常小于10 um)。
由于研磨過(guò)程很溫和,所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線(xiàn)衍射分析樣品制備的**選擇。
根據(jù)技術(shù)改造和誤差調(diào)整
研磨過(guò)程中晶格被保留。
粒徑分布窄。
幾乎沒(méi)有交叉污染。
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運(yùn)行安靜。