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        核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨
        核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨

        參考價(jià)格

        20-30萬元

        型號

        CMSD2000

        品牌

        IKN

        產(chǎn)地

        德國

        樣本

        暫無
        上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

        金牌會員

        |

        第14年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

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        核心參數(shù)
        • 粉碎程度:

          超細(xì)粉碎
        • 單位能耗:

          11
        • 產(chǎn)量:

          1000
        • 裝機(jī)功率(kw):

          11
        • 成品細(xì)度:

          1
        • 入料粒度(mm):

          100
        • 工作原理:

          自磨
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        核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,核糖膠體磨,豬胰高速勻漿機(jī),豬胰組織勻漿機(jī),德國高速膠體磨是透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。


        核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,的工藝

        糖核酸的制備方法,包括如下步驟:


        1)提取原液的制備將動物胰腺小塊絞碎后移入膠體磨,加入提取緩沖液進(jìn)行研磨,得到提取原液;所述提取緩沖液為0.01~0.10mol/LTris-乙酸緩沖液,pH4~8;


        2)核糖核酸的提取提取原液加入0.2~10倍體積飽和酚液體的上層水相,和0.2~10倍體積的飽和酚液體的下層酚相,加熱到40~80℃,恒溫30~180分鐘;然后,在4~10℃下離心,收集上清液;所述飽和酚液體是將苯酚融化后,


        加入等體積的步驟1)所述提取緩沖液,攪拌均勻后得到的;上清液加入0.5~2倍體積的氯仿-異戊醇溶液,搖勻5~30分鐘,在4~10℃下離心,收集上清液;上清液加入0.2~2倍體積氯仿-異戊醇,搖勻后在4~10℃離心,收集含核糖核酸的上層上清液,所述氯仿-異戊醇溶液中氯仿與異戊醇的體積比為10~50∶1;上清液加入0.1~1體積助沉淀緩沖液,再加入2~6倍體積95%乙醇,搖勻,4℃放置過夜,在4~10℃下離心,收集得到核糖核酸沉淀;助沉淀緩沖液為1-5mol/L乙酸鈉溶液,pH為3-6。


        核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,核糖膠體磨,豬胰高速勻漿機(jī),豬胰組織勻漿機(jī),德國高速膠體磨的提取率影響因素

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        影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

         

        2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

        3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

        4  物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

        5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

         

        線速度的計(jì)算

        剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

        剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                       g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

        由上可知,剪切速率取決于以下因素:

        轉(zhuǎn)子的線速率

        在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
        IKN -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

         

        速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

         

        納米研磨機(jī)|高速納米研磨機(jī)|高剪切納米研磨機(jī)|納米材料研磨機(jī)|納米改性研磨機(jī)|研磨機(jī)原理|納米研磨機(jī)價(jià)格|德國納米研磨機(jī)進(jìn)口納米研磨機(jī).

        粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動態(tài)的平衡。

        IKN膠體磨由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果

         

        為了達(dá)到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機(jī)固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達(dá)到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強(qiáng)度夠不夠?機(jī)械密封會不會因?yàn)楫a(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會不會偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點(diǎn),也應(yīng)該是廣大客戶在選型時(shí)應(yīng)該重視的幾個(gè)方面。

        QQ圖片20160926191725.jpg

        核糖核酸膠體磨,豬胰膠體磨,核酸膠體磨,核糖膠體磨,豬胰高速勻漿機(jī)由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

        **級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

        第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫?,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

        CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

         

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        研磨分散機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域:

        化學(xué)工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素,石墨烯,碳納米管,富勒烯,電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。         

         食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,食用菌絲,蛋白粉 ,豆粕酶解等
        日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜,粉底 等。
        醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,口服混懸液,注射混懸液 ,膠囊,微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋,硫酸頭孢喹肟 等。 
        建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
        新能源材料:石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

         

        膠體磨磨頭CM2000膠體磨

        設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
        電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
        電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
        電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
        研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
        研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
        研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
        進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
        研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

        研磨分散機(jī)

        流量*

        輸出

        線速度

        功率

        入口/出口連接

        類型

        l/h

        rpm

        m/s

        kW


        CMSD 2000/4

        400

        14,000

        41

        4

        DN25/DN15

        CMSD 2000/5

        1500

        10,500

        41

        11

        DN40/DN32

        CMSD 2000/10

        4000

        7,200

        41

        22

        DN80/DN65

        CMSD 2000/20

        10000

        4,900

        41

        45

        DN80/DN65

        CMSD 2000/30

        20000

        2,850

        41

        90

        DN150/DN125

        CMSD2000/50

        60000

        1,100

        41

        160

        DN200/DN150

        *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%。

        1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

        2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。

        3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

        4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。


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