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        納米氧化鋅剪切研磨機(jī)
        納米氧化鋅剪切研磨機(jī)

        參考價(jià)格

        5-10萬(wàn)元

        型號(hào)

        CMD2000/4

        品牌

        IKN

        產(chǎn)地

        德國(guó)

        樣本

        暫無(wú)
        上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

        金牌會(huì)員

        |

        第14年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

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        核心參數(shù)
        • 能耗:

          2.2KW
        • 處理量:

          0-300L/H
        • 工作原理:

          立式
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        納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無(wú)機(jī)產(chǎn)品,表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì),如非遷移性,熒光性,壓電性,吸收和散射紫外線能力等,利用其在光,電,磁,敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器,熒光體,變阻器,圖像記錄材料,壓電材料,壓敏電阻,高效催化劑,磁性材料和等。

        咨詢熱線:13795214885 賈清清  微信同手機(jī)號(hào)  公司有樣機(jī)可供客戶購(gòu)前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來(lái)我司參觀指導(dǎo)!

        納米氧化鋅的分散難點(diǎn):納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中,容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象,導(dǎo)致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。

        如果使用普通的分散設(shè)備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象,團(tuán)聚體難以打開,而如果采用IKN**研發(fā)的分散設(shè)備,研磨分散機(jī)的話,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問(wèn)題,可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級(jí)。

        IKN研磨式分散機(jī),是由 分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備,主要是為了解決納米級(jí)物料的分散,如:納米,納米氫氧化鎂,納米氧化鋁,石墨烯,碳納米管等納米級(jí)物料的分散。

        CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

        CMD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)的特點(diǎn):


        ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

        ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

        ③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

        ④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

        ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


        創(chuàng)新點(diǎn)

        IKN定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機(jī)一般為0.5-0.7mm,IKN定轉(zhuǎn)子更加精密,對(duì)于物料的細(xì)化效果更好。另外,IKN乳化機(jī)配置三組定轉(zhuǎn)子,物料通過(guò)工作腔體,相當(dāng)于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更徹底。

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