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            硅橡膠改性分散機
            硅橡膠改性分散機

            參考價格

            10-20萬元

            型號

            CMD2000/4

            品牌

            IKN

            產(chǎn)地

            德國

            樣本

            暫無
            上海依肯機械設(shè)備有限公司

            金牌會員

            |

            第15年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實

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            核心參數(shù)
            • 能耗:

              4KW
            • 處理量:

              0-300L/H
            • 物料類型:

              粉狀
            • 工作原理:

              立式
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            硅橡膠改性分散機,納米物料改性硅橡膠技術(shù),硅橡膠改性設(shè)備,高剪切研磨分散機
                 
            硅橡膠具有優(yōu)異的耐熱性、耐寒性和電性能,廣泛用于電絕緣制品和密封制品等領(lǐng)域中,近幾年得到了長足發(fā)展。隨著工業(yè)化水平的不斷提高,人們對硅橡膠的要求也越來越高,傳統(tǒng)的硅橡膠產(chǎn)品難以滿足人們的要求,尤其在機械性、阻燃性和抗老化性等方面,因此,對硅橡膠進(jìn)行改性勢在必行。

                   研磨分散機.jpg

            納米粒子具有量子尺寸效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng),因而展現(xiàn)出許多特有的性質(zhì)。在催化、光吸收、磁介質(zhì)及新材料等領(lǐng)域有良好的發(fā)展前景,在對高分子材料性能的改善與提高方面也具有巨大的發(fā)展空間。利用納米材料作為改性劑對室溫硫化硅橡膠進(jìn)行相關(guān)性能研究是一種新穎而有效的手段,納米SiOx粒子尺寸在10-15 nm,表面原子數(shù)目多,具有較高的表面能和表面結(jié)合能;同時,納米SiOx粒子表面氧原子大量流失,納米SiOx分子式中值在1.2~1.6之間,因而粒子表面欠氧而具有不穩(wěn)定的硅氧結(jié)構(gòu);另外,納米SiOx粒子表面還含有大量羥基,表面羥基值高達(dá)48%。因而利用納米SiOx對室溫硫化硅橡膠改性時將產(chǎn)生特殊的效果。并且,納米SiOx的主要成分與室溫硫化硅橡膠的主鏈組成相同,有利于納米材料在其中分散。再加以高精密的分散設(shè)備的配合,防止納米SiOx在分散中形成二級團(tuán)聚體,IKN研磨分散機在納米改性硅橡膠領(lǐng)域有著豐富的經(jīng)驗,設(shè)備的結(jié)構(gòu)以及高的轉(zhuǎn)速,可以很好的將納米物料分散到硅橡膠中,從而更充分的改進(jìn)硅橡膠的性能。        

            CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。


            咨詢熱線:13795214885 賈清清  微信同手機號  公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!


            CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):

            研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品

            **級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

            磨頭.jpg

            第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。 

            乳化頭.jpg

            CMD2000系列研磨分散機的特點

            ①線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

            ②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

            ③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

            ④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

            ⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

            硅橡膠改性分散機,納米物料改性硅橡膠技術(shù),硅橡膠改性設(shè)備,高剪切研磨分散機



            創(chuàng)新點

            CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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            易用性

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