參考價(jià)格
5-10萬(wàn)元型號(hào)
CMD2000/4品牌
IKN產(chǎn)地
德國(guó)樣本
暫無(wú)能耗：
4KW處理量：
0-300L/H物料類(lèi)型：
粉狀工作原理：
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軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)，軟膠囊內(nèi)容物膠體磨，膠囊膠體磨，改良型膠體磨，醫(yī)藥乳液膠體磨，醫(yī)藥混懸液膠體磨，此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤(pán)，先研磨后分散，物料粒徑更細(xì)，更穩(wěn)定！
軟膠囊制劑多用于非水溶性、對(duì)光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴(yán)密、用量精確、生物利用度高，藥物的穩(wěn)定性也得到提升，此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實(shí)驗(yàn)證明，口服制劑的生物利用度，以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊**，混懸液次之，再次為含顆粒的硬膠囊，*差為片劑。
近年來(lái)，超微粉碎技術(shù)逐漸應(yīng)用到軟膠囊領(lǐng)域，通過(guò)研究發(fā)現(xiàn)，藥材經(jīng)過(guò)超微化粉碎后，粉末粒徑大小分布均勻，球性度和均質(zhì)度明顯改善，這些細(xì)粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當(dāng)中，質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展，對(duì)于膠囊的內(nèi)容物的處理，出現(xiàn)的大量的設(shè)備，如：膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)等。這些設(shè)備通過(guò)對(duì)內(nèi)容物的剪切，從內(nèi)容物粒徑更加細(xì)化，粉末分散更加均勻。而上海依肯應(yīng)對(duì)這種情況，研發(fā)出了**的設(shè)備，改良性膠體磨，該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī)的特點(diǎn)，將二者一體，形成**的設(shè)備，我們也將它定義為“研磨分散機(jī)”。
IKN改良型膠體磨，IKN研磨分散機(jī)，對(duì)于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢(shì)，對(duì)于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效，無(wú)論內(nèi)容物是乳液還是混懸液，都可以將物料充分的細(xì)化，提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭，IKN改良型膠體磨，研磨分散機(jī)，有一級(jí)膠體磨頭和一級(jí)分散盤(pán)，對(duì)物料先研磨后分散機(jī)，再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速，乳液粒徑一般可細(xì)化至1-2微米，混懸液一般可細(xì)化至3-5微米，當(dāng)然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來(lái)定。
CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由膠體磨，分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMD2000系列軟膠囊膠體磨選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
軟膠囊內(nèi)容物膠體磨，軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)，膠囊膠體磨，改良型膠體磨，醫(yī)藥乳液膠體磨，醫(yī)藥混懸液膠體磨
此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤(pán)，先研磨后分散，物料粒徑更細(xì)，更穩(wěn)定！
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機(jī)，防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機(jī)，納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機(jī)，連續(xù)式納米二氧化硅分散機(jī)，在線式納米二氧化硅分散機(jī)，德國(guó)進(jìn)口分散機(jī)，在線式分散機(jī)IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復(fù)合物，具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國(guó)柏林化學(xué)公司在上世紀(jì)七十年代開(kāi)發(fā)上市，在歐美等國(guó)家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國(guó)衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑（Emulsion）是指互不相溶的兩相液體，其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱(chēng)為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相，另一相液體則稱(chēng)為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球（microspheres）是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實(shí)體，其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
不同轉(zhuǎn)速分散機(jī)比較 依肯（IKN）機(jī)械 最新產(chǎn)品目錄 依肯（IKN）機(jī)械 最新產(chǎn)品目錄 依肯（IKN）機(jī)械不同轉(zhuǎn)速分散機(jī)的比較 IKN乳化頭定轉(zhuǎn)子技術(shù) 
在乳劑藥品如軟膏、乳霜等的整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中——必須按照嚴(yán)格的產(chǎn)品衛(wèi)生或無(wú)菌級(jí)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行管控。各種原料必須在受控、安全和可重復(fù)的條件下以定量的方式進(jìn)行均質(zhì)、加熱、冷卻、滅菌與填充。生產(chǎn)系統(tǒng)必須包含在線清洗（
一種分散乳化一體機(jī)
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