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            電阻蒸發(fā)鍍膜設備ZHD400
            電阻蒸發(fā)鍍膜設備ZHD400

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            電阻蒸發(fā)鍍膜設備ZHD400

            品牌

            北京泰科諾

            產地

            北京

            樣本

            暫無
            北京泰科諾科技有限公司

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            設備型號:ZHD400

            鍍膜方式:多源蒸發(fā)鍍膜

            真空腔室結構:立式方形前開門結構

            真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm

            加熱溫度:室溫~ 300℃

            基片臺尺寸:120mm×120mm

            膜厚不均勻性:≤ ±5.0%

            蒸發(fā)源:2-3 組金屬源 /2-3 組有機源

            控制方式:PLC + 觸摸屏控制

            占地面積:主機 L1710mm×W850mm×H1850mm

            總功率:≥ 8kW

            適用范圍.jpg


            大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備


            特點用途.jpg


            1. 設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護成本低;

            2. 設備配備多組蒸發(fā)源,兼容有機蒸發(fā)與無機蒸發(fā) , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業(yè),功能強大,性能穩(wěn)定;

            3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜,也可用于生產線前期工藝試驗等。



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