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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP650品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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基片臺尺寸：抽屜式：150mm×120mm 可旋轉(zhuǎn)、升降
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%（120mmx120mm 范圍內(nèi)）
濺射靶：6英寸3只
濺射靶電源：1臺RF，2臺DC
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積：L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )
總功率：≥15kW 三相五線制
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