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公司背景-Global Leader in Process Control since 1976

KLA-Tencor 是全球半導(dǎo)體在線檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)**的供應(yīng)商；

KLA-Tencor2018 年 3 月從 Keysight Technologies 公司收購(gòu)了行業(yè)的龍頭產(chǎn)品-高精度原位微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)-Nano Indenter G200 和高精度微納米拉伸系統(tǒng)-UTM T150；

該力學(xué)設(shè)備的工廠是全球**的高精度力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)的供應(yīng)商，1983 年成功制造了世界上**臺(tái)商用

Nano Indenter。

該力學(xué)設(shè)備的工廠是業(yè)內(nèi)**擁有超過 35 年的 Nano Indenter 生產(chǎn)和研究經(jīng)驗(yàn)的供應(yīng)商，成熟的工藝保證了新一代 Nano Indenter G200 具有**的穩(wěn)定性和可靠性。

該力學(xué)設(shè)備的工廠擁有*廣泛的顧客群，在高端力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)領(lǐng)域內(nèi)擁有**的的市場(chǎng)占有率。

1． 產(chǎn)品技術(shù)水平

KLA-Tencor 擁有*多的 Nano Indenter 的核心**技術(shù)，包括已成為業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)的連續(xù)剛度測(cè)量功能、接觸剛度成像功能以及快速納米壓入測(cè)試技術(shù)等等；

KLA-Tencor 公司的連續(xù)剛度測(cè)量功能已經(jīng)成為薄膜、涂層、多相材料等樣品檢測(cè)*常用的的測(cè)試技術(shù)，并已經(jīng)錄入各種力學(xué)領(lǐng)域的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)和中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)。

KLA-Tencor 擁有世界上*快壓痕測(cè)試技術(shù)的**，*快可達(dá)到 1 壓痕點(diǎn)/秒。

2． 售后服務(wù)和技術(shù)支持

KLA-Tencor 公司在中國(guó)有超過 600 名員工，在國(guó)內(nèi)配備本土 Nano Indenter 方面的技術(shù)專家，在業(yè)內(nèi)擁有**的口碑。

KLA-Tencor 公司在中國(guó)擁有自己的納米科學(xué)示范實(shí)驗(yàn)室，并有專職的應(yīng)用專家在實(shí)驗(yàn)室工作，負(fù)責(zé)用戶的應(yīng)用技術(shù)支持工作；

KLA-Tencor 公司還定期地舉辦高級(jí)用戶培訓(xùn)班，由公司的應(yīng)用科學(xué)家為不同學(xué)科的用戶進(jìn)行各個(gè)領(lǐng)域應(yīng)用的深層次培訓(xùn)。

特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

–廣受贊譽(yù)的高速測(cè)試選項(xiàng)可以和所有G200 型納米壓痕儀配合使用， 包括DCMII 和 XP 模塊以及樣品臺(tái)

–快速進(jìn)行面積函數(shù)和框架剛度校對(duì)

–精確和可重復(fù)的結(jié)果， 完全符合

ISO14577 標(biāo)準(zhǔn)

–通過電磁驅(qū)動(dòng)， 可在****的范圍內(nèi)連續(xù)調(diào)整加載力和位移

–結(jié)構(gòu)優(yōu)化， 適合傳統(tǒng)測(cè)試或全新應(yīng)用

–模塊化選項(xiàng)， 適合劃痕測(cè)試， 高溫測(cè)試

–和動(dòng)態(tài)測(cè)試

–強(qiáng)大的軟件功能， 包括對(duì)試驗(yàn)進(jìn)行實(shí)時(shí)控制， 簡(jiǎn)化了的特殊測(cè)試方法的開發(fā)

第五代原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)

Nano Indenter G200

在微/納尺度范圍內(nèi)的加載和位移構(gòu)成精確的力學(xué)測(cè)試

應(yīng)用

–半導(dǎo)體器件， 薄膜

–硬質(zhì)涂層， DLC薄膜

–復(fù)合材料， 光纖， 聚合物材料

–金屬材料， 陶瓷材料

–無鉛焊料

–生物材料， 生物及仿生組織等等

先進(jìn)的設(shè)計(jì)

所有的納米壓痕試驗(yàn)都取決于精確的加載和位移數(shù)據(jù)，要求對(duì)加載到樣品上的 載荷有精確的控制。KT**的第五代 G200 型納米壓痕儀采用電磁驅(qū)動(dòng)的載荷裝置，從而保證測(cè)量的精確度，獨(dú)特的設(shè)計(jì)避免了橫向位移的影響。

KT**的第五代 G200 型納米壓痕儀的杰出設(shè)計(jì)帶來很多的便利性，包括方便的測(cè)試到整個(gè)樣品臺(tái)，精確的樣品定位，方便的確定樣品位置和測(cè)試區(qū)域，簡(jiǎn) 便的樣品高度調(diào)整，以及快速的測(cè)試報(bào)告輸出。模塊化的控制器設(shè)計(jì)為今后的 升級(jí)帶來極大的方便。

此外，**的第五代 G200 型納米壓痕儀完全符合各種國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，保證了數(shù)據(jù)的完整性?？蛻艨梢酝ㄟ^每個(gè)力學(xué)傳感器自主設(shè)計(jì)試驗(yàn)，在任何時(shí)候?qū)ζ溥M(jìn)行切換，同時(shí)整個(gè)設(shè)備占地面積小，適合各種實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。

2017年獲得聯(lián)合國(guó)教科文組織頒獎(jiǎng)的納米科技領(lǐng)域的創(chuàng)新技

NanoSuite的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

–極其靈活、精確的數(shù)據(jù)采集和控制

–不斷更新的測(cè)試方法

–**的批處理測(cè)試功能

–新型的 2D 圖形輸出功能

–測(cè)試數(shù)據(jù)更有效的分析功能

–PDF 測(cè)試數(shù)據(jù)的直接輸出

–優(yōu)越的自我定制測(cè)試模型的建立

–非常方便的個(gè)性化測(cè)試方法的建立

–功能齊全完善的圖像處理功能

–用戶可輕松的編輯自己的測(cè)試方法以滿足特殊的應(yīng)用與需求

–定制化的測(cè)試方法同樣可滿足 ISO14577 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)

–提供專業(yè)的建模和仿真軟件， 幫助用戶實(shí)現(xiàn)特殊的離線研究需要

KLA-Tencor技術(shù)顧問服務(wù)

KT擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)支持和服務(wù)工程師團(tuán)隊(duì)，可針對(duì)客戶的 特殊應(yīng)用與測(cè)試需求提供定制化的技術(shù)顧問服務(wù)。

經(jīng)過超過 35 年的發(fā)展，NanoSuite 已經(jīng)成為業(yè)內(nèi)公認(rèn)的界面友好、操作簡(jiǎn)便、功能齊全的數(shù)據(jù)采集和處理軟件包，NanoSuite 不僅可以自動(dòng)測(cè)試，也可以使用戶利用網(wǎng)絡(luò)遠(yuǎn)程遙控進(jìn)行實(shí)驗(yàn)控制，NanoSuite 不僅能夠做到壓入過程中硬度和彈性模量等力學(xué)性能的實(shí)時(shí)計(jì)算和顯示，同時(shí)允許用戶根據(jù)自 己的研究需求以及提出的新模型隨時(shí)添加新的軟件通道，此外，根據(jù)實(shí)驗(yàn)參 量的變化快慢能夠自動(dòng)調(diào)整數(shù)據(jù)的采集速率，實(shí)現(xiàn)了智能化的數(shù)據(jù)采集功 能，從而既獲得您真正需要的數(shù)據(jù)，又可避免不必要的垃圾數(shù)據(jù)。

增強(qiáng)的載荷加載系統(tǒng)

新一代 Nano Indenter G200 系列納米壓痕儀是具有從納牛到牛頓*為完整的加載力范圍，并且不同的加載裝置可自動(dòng)軟件切換，整個(gè)測(cè)試流程都是全 自動(dòng)的，極大的提高了測(cè)試數(shù)據(jù)的可靠性和可重復(fù)性，避免了可能的人為因 素的影響，確保每個(gè)測(cè)試都是合理、一致、精確。

標(biāo)準(zhǔn)的加載裝置

Nano Indenter G200 納米壓痕儀標(biāo)準(zhǔn)配置是 XP 加載系統(tǒng) (**為500mN)， 位移分辨率< 0.01納米，**壓入深度>500 微米，該裝置可應(yīng)用到所有的測(cè)試功能。壓頭更換輕松完成，非常好的機(jī)架剛度極大的減少了系統(tǒng)對(duì)測(cè)試的 影響。

高精度加載裝置

DCM II 是高分辨的納米納牛力加載模塊，它既可以單獨(dú)工作，也可以作為一個(gè)附件與Nano Indenter G200 協(xié)同工作。由于其慣性質(zhì)量很低，使得納米壓痕中的初始表面的選取更加靈敏、精確， DCM II 在超低載荷下的納米壓痕測(cè)試具有極高的精確度和可重復(fù)性，由于它自身的空載共振頻率遠(yuǎn)高于一般建筑物的振動(dòng)頻率，這就使得一般的環(huán)境振動(dòng)對(duì)它幾乎沒有影響，DCM II 具有很寬的動(dòng)態(tài)頻率范圍 (0.1 Hz 到 300 Hz)，所有這些特點(diǎn)使得 DCM II 可以提供同類設(shè)備不可比擬的高信噪比和高可靠性的試驗(yàn)數(shù)據(jù)，例如右圖所示的藍(lán)寶石上三個(gè)納米深度的壓痕測(cè)試，在幾個(gè)納米的壓痕深度范圍內(nèi)獲得了非常可靠的彈性模量。

大載荷加載裝置

Nano Indenter G200的大載荷加載選件，大大強(qiáng)化了 G200 系列納米壓痕儀的應(yīng)用范圍。這個(gè)選件可以用于標(biāo)準(zhǔn)的 XP 加載模塊，將 G200 型納米壓痕儀的加載能力擴(kuò)展至 10N，可對(duì)陶瓷、金屬塊材和復(fù)合材料進(jìn)行力學(xué)表征。大載荷選件的巧妙設(shè)計(jì)，使得 G200 既避免了在低載荷的情況下犧牲儀器的載荷和位移精度，同時(shí)又保證了用戶在需要大加載力的測(cè)試時(shí)，通過鼠標(biāo)操作就可以在測(cè)試實(shí)驗(yàn)中進(jìn)行無縫加載裝置切換。