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裝置概述
本裝置是催化劑預(yù)處理裝置，擁有四個氣路，兩套獨立的氣路控制單元，加熱爐安裝在裝置的左右兩側(cè)，選用精密的控制儀表，使得裝置具有控溫精度高、可靠性高、操作簡便、結(jié)構(gòu)緊湊的特點。該裝置可用于催化劑預(yù)處理，包括還原、氧化、碳化、硫化、氮化等，也可用于復(fù)合材料的后處理。
技術(shù)參數(shù)
- 氣路：1-4（任選）；
- 加熱爐：1-2（任選），加熱爐溫度Max：1200 ℃；
- 氣體質(zhì)量流量器：0 – 500 mL/min（任選）；
- 工作壓力：常壓；
- 溫度控制：± 0.5 ℃；
- 計算機控制（任選）。
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