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Electro IR中紅外皮秒超連續(xù)譜光源
1、Electro IR
產(chǎn)品特性：
900到2800 nm寬光譜
空間單模
脈沖寬度從40ps到1ns
低時間抖動（<20 ns）
外部觸發(fā)
近紅外波段平坦光譜
選項(xiàng)：*小波長到700 nm
應(yīng)用：
光譜
光學(xué)元件測試
高分辨率成像（OCT）
度量學(xué)
| ELECTRO 100 IR | ELECTRO 250 IR | ELECTRO 2000 IR | |
|---|---|---|---|
| 光譜帶寬（*?。?/span> | > 900nm | > 900nm | > 900nm |
| 光譜帶寬（**） | <3000nm | <3000nm | <2800 nm |
| 總平均功率 | > 500mW | > 1300mW | <400 mW |
| 重復(fù)率 | 100 kHz | 250 kHz | 2 MHz |
| 時間抖動 | <20 ns | <20 ns | <20 ns |
| 空間模式 | 單模 | 單模 | 單模 |
| 脈寬 | <1 ns | <1 ns | <100 ps |
Electro IR中紅外皮秒超連續(xù)譜光源
2、Electro MIR
產(chǎn)品特性：
中紅外超連續(xù)譜激光器
從700到4000納米的寬譜
空間單模
大功率
高重復(fù)率
使用壽命長
免維護(hù)
應(yīng)用：
光譜
化學(xué)指紋圖譜
度量學(xué)
高分辨率成像
| ELECTRO MIR | ELECTRO MIR 4.1 | ELECTRO MIR 4.8 |
|---|---|---|
| 頻譜帶寬（min） | > 800nm | > 800nm |
| 頻譜帶寬（max） | <4100 nm | <4800 nm |
| 總平均功率 | > 800 mW | > 500 mW |
| 脈沖寬度 | > 100 ps | > 100 ps |
| 重復(fù)率 | 250 kHz | 250 kHz |
| 時間抖動 | <10 ns | <10 ns |
| 空間輪廓 | 單模 | 單模 |
Electro MIR中紅外皮秒超連續(xù)譜光源
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