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金刻蝕光柵
該系列光柵主要用于高功率以及高效率的應用。
我們在金材料上設計和刻蝕光柵，用于紅外波段（4～12微米）的激光應用。金光柵特別適合于追求高效率紅外激光應用。在高功率應用中，為了避免高功率激光打壞光柵，通常都要在光柵上鍍一層鋁。該系列光柵的基質是不脹鋼或者陶瓷。如果您希望用其他基質，可以和頂尖公司聯(lián)系。
產品特點：
●在特殊基質上刻蝕的金層可以用于4～12微米的應用。
●在銅基質上鋁層刻蝕出來的是標準的分子激光光柵。
線密度g/mm | 70～ 450 |
工作范圍(μm) | 4～12 |
基質 | 銅，不脹鋼，陶瓷，硅 |
通光孔徑 | 90% |
劃線與邊緣的平行度 | ± 0.5° |
尺寸公差 | ± 0.5 mm |
厚度公差 | ± 0.5 mm |
典型峰值效率（偏振） | ≥95% |
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