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        1200低真空CVD系統(tǒng)
        1200低真空CVD系統(tǒng)

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        簡介

        1200℃低真空CVD系統(tǒng)是由滑動式管式實驗電爐,混氣系統(tǒng),真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結溫度可達1200℃,通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫;配置不同的真空系統(tǒng)來達到理想的真空度;同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。是為石墨烯生長、研發(fā)的專用爐,也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。

        主要技術參數(shù)

        爐體結構

        整機采用SUS304不銹鋼材質,流線型外觀,斷熱式結構;

        日本技術真空吸附成型的優(yōu)質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,保溫性能好;

        爐子底部裝有一對滑軌,移動平穩(wěn);

        爐子可以手動從一端滑向另一端,實現(xiàn)快速的加熱和冷卻;

        支撐兩端安裝油壓緩沖器;

        爐蓋可開啟,可以實時觀察加熱的物料

        尺寸重量

        1240*600*1340mm;170kg

        電源

        電壓:AC220V 50/60Hz;功率:4KW

        爐管

        高純石英管,高溫下化學穩(wěn)定性強,耐腐蝕,熱膨脹系數(shù)極小;

        尺寸:Φ60/80/100*1200mm

        法蘭及支撐

        SUS304不銹鋼快速法蘭,通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空;

        一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷;

        可調節(jié)的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐;

        包含進氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合。

        加熱系統(tǒng)

        加熱元件采用優(yōu)質合金絲,表面負荷高、經久耐用; 加熱區(qū)長度:300mm;恒溫區(qū)長度:150mm; 工作溫度:≤1150℃; **溫度:1200℃;

        升溫速率:推薦≤10℃/min,*快升溫速度30℃/min

        溫控系統(tǒng)

        日本富士儀表,64段控溫程序,可分步、分段; 測溫元件:N型熱電偶; 控溫精度:±1℃

        混氣系統(tǒng)

        三路質量流量計:數(shù)字顯示、氣體流量自動控制

        內置不銹鋼混氣箱,每路氣體管路均配有逆止閥

        管路采用不銹鋼管,接口為Φ6卡套

        每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥

        通過控制面板上的旋鈕來調節(jié)氣體流量

        流量規(guī)格:0~1SLM 流量精度:±1.5%

        真空系統(tǒng)

        采用雙極旋片真空泵,真空度可達10Pa

        可選配件

        高真空系統(tǒng),各種剛玉、石英坩堝,石英管,計算機控制軟件

        保修期

        整機一年保修(相關耗材除外)

        可根據(jù)客戶要求定制!

        特色與優(yōu)勢

        1.滑動式爐體結構實現(xiàn)快速升降溫;

        2.開啟式爐蓋設置,降低沉積溫度、加快沉積速度;

        3.日本富士溫控儀表,64段控溫程序,可分布,分段,三路質量流量計,數(shù)字顯示精確控制氣體流量;

        4.雙極旋片真空泵+分子泵,實現(xiàn)對真空度的不同要求,極限真空可達4.0*10-4Pa。

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        售后服務

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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        1200低真空CVD系統(tǒng)信息由上海煜志科技有限公司(杭州嘉悅智能設備有限公司)為您提供,如您想了解更多關于1200低真空CVD系統(tǒng)報價、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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