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        基質(zhì)升華儀HTX
        基質(zhì)升華儀HTX

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        HTX

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        美國

        樣本

        暫無
        通用實驗科技(中國)有限公司

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        一,產(chǎn)品設計原理:

        在真空腔內(nèi),利用一個加熱板升華底部的基質(zhì),然后利用一個冷卻板將基質(zhì)沉積到樣品表面。所有這個過程發(fā)生在基質(zhì)的三相點以下,因此沒有涉及液態(tài)物質(zhì),從而減少了移位效應。

        二,產(chǎn)品技術優(yōu)勢:

        可以設定時間控制升華步驟;大部分基質(zhì)都可以在180s內(nèi)完成升華過程;適用于DHB, CHCA, SA, DAN, AA, Norhamane等基質(zhì);分辨率:升華能夠保證納米級的*小結晶尺寸;*小的移位效應:基質(zhì)噴涂過程中,跳過液態(tài)直接升華為氣態(tài),樣品的更多空間信息被完整保留;高效:一次處理即可完成基質(zhì)沉積。

        三,產(chǎn)品梗概:

        快速、簡單、重復性好、移位效應小

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        10分

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        10分
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