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應用
清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì)。
清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗半導體元件、印刷線路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉積凝膠的基片。
高分子材料表面修飾。
牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
功能
對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 （如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進行超清洗。
改變某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
清除金屬材料表面的氧化層。
對被清洗物進行消毒、殺菌。
優(yōu)點
清除表面有機污染物。
清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。
非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。
綠色環(huán)保、不使用化學溶劑、無二次污染。
常溫條件下清洗，被清洗物的溫度變化微小。
能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。
產(chǎn)品名稱：Harrick PDC－002
產(chǎn)品編號：
產(chǎn)品規(guī)格：
型號規(guī)格：PDC—002
整機規(guī)格：9×18×11（長×寬×高）英寸 (228×457×279)mm反應艙規(guī)格：Φ6×L6英寸耐熱玻璃 (Φ152×L152)mm
反應艙有效容積：2.8L
輸入電源：220 V／50Hz
整機輸入功率：200 W
射頻輸出檔：低檔716V DC、10mA DC、7.16W/中檔720V DC、15mA DC、10.15W/高檔740V DC、40mA DC、29.6W
常用工作氣體：空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等
特征：緊湊的臺式設(shè)備，沒有RF幅射，符合CE安全標準。反應艙蓋具備鉸鏈、磁力鎖及可視窗口。
選配件：石英等離子清洗艙
提供各自計量兩種不同氣體進氣和監(jiān)測壓力的氣體計量混合器Plasma FloTM
需要：兼容的真空泵，*小速率為1.4 m3/hr，**極限為200 MTorr。
包括：1/8英寸NPT針閥束引入氣體和控制壓力
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