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產(chǎn)品簡介：

SE橢偏儀系列薄膜分析產(chǎn)品來自美國AST公司，其可以實現(xiàn)薄膜厚度精準測量，同時可以實現(xiàn)12層的薄膜厚度測試，同樣對于材料NK參數(shù)也可以實現(xiàn)準確測量，為人們針對薄膜進行分析提供了極大便利。

特點：

· 易于安裝

· 基于視窗結構的軟件，很容易操作

· 先進的光學設計，以確保能發(fā)揮出**的系統(tǒng)性能

· 能夠自動的以0.01度的分辨率改變入射角度

· 高功率的DUV－VIS光源，能夠應用在很寬的波段內

· 基于陣列設計的探測器系統(tǒng)，以確保快速測量

· *多可測量12層薄膜的厚度及折射率

· 能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)

· 系統(tǒng)配備大量的光學常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫

· 對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析；

· 三種不同水平的用戶控制模式：專家模式、系統(tǒng)服務模式及初級用戶模式

· 靈活的專家模式可用于各種獨特的設置和光學模型測試

· 健全的一鍵按鈕(Turn－key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案

· 用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習慣來配置參數(shù)的測量

· 系統(tǒng)有著全自動的計算功能及初始化功能

· 無需外部的光學器件，系統(tǒng)從樣品測量信號中，直接就可以對樣品進行精確的校準

· 可精密的調節(jié)高度及傾斜度

· 能夠應用于測量不同厚度、不同類型的基片

· 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求

· 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。

系統(tǒng)配置：

· 型號：SE200BM-M300

· 探測器：陣列探測器

· 光源：高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

· 指示角度變化：手動調節(jié)

· 平臺：ρ-θ配置的自動成像

· 軟件：TFProbe 3.2版本的軟件

· 計算機：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

· 電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

· 保修：一年的整機及零備件保修

規(guī)格：

· 波長范圍：250nm到1000 nm

· 波長分辨率: 1nm

· 光斑尺寸：1mm至5mm可變

· 入射角范圍：0到90度

· 入射角變化分辨率：5度 間隔

· 樣品尺寸：**直徑為300mm

· 基板尺寸：*多可至20毫米厚

· 測量厚度范圍*：0nm〜10μm

· 測量時間：約1秒/位置點

· 精確度*：優(yōu)于0.25％

· 重復性誤差*：小于1 Ǻ

選項:

· 用于反射的光度測量或透射測量

· 用于測量小區(qū)域的微小光斑

· 用于改變入射角度的自動量角器

· X－Y成像平臺(X-Y模式，取代ρ-θ模式)

· 加熱/致冷平臺

· 樣品垂直安裝角度計

· 波長可擴展到遠DUV或IR范圍

· 掃描單色儀的配置

· 聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能，可用于對樣品的圖像進行測量

應用:

· 半導體制造（PR，Oxide， Nitride..)

· 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）

· 醫(yī)學，生物薄膜及材料領域等

· 油墨，礦物學，顏料，調色劑等

· 醫(yī)藥，中間設備

· 光學涂層，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..

· 半導體化合物

· 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜

· 非晶體，納米材料和結晶硅

應用實例:

請與我們聯(lián)系以獲得詳盡的應用實例......

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