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            Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡
            Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡

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            賽默飛世爾科技電子顯微鏡

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            Helios NanoLab DualBeam

            一直以來,Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的**電子和離子光學系統(tǒng)、配件和軟件,能夠為尖端納米量級研究提供強大的解決方案。對于從事納米技術前沿研究的科學家,Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界,為材料研究開辟新的天地。

            借助**價值的亞納米 SEM 成像技術、S/TEM 超薄樣本制備能力以及*精確的原型設計功能,科學家能夠將 Helios NanoLab 當作理想的研究伴侶,為未來的科技進步開發(fā)創(chuàng)新的新材料和納米量級器件。

            Helios NanoLab 的材料科學應用

            在材料科學領域,研究人員面臨的挑戰(zhàn)是持續(xù)改善目前制造的材料和設備的質量。為了實現(xiàn)技術進步,在納米量級了解結構和成分細節(jié)至關重要。Helios NanoLab 設計用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察,讓研究人員能夠觀測樣本*微小的細節(jié)。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備**質量的樣本。此外,如果研究工作包括開發(fā) MEMS 或 NEMS 器件,也可配備 Helios NanoLab 打造全功能原型。

              Helios NanoLab 的電子工業(yè)應用

              Helios NanoLab 是一款極其靈活的平臺,既能以極高的效率制備 TEM 樣本,又能開展高性能低電壓成像以分析高級邏輯和存儲器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個配置,效率極高,并且是面向實驗室和近生產環(huán)境的低每樣本成本半導體分析工作流的關鍵組成部分。

                Helios NanoLab 的自然資源應用

                地質學家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術對鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術獨具特色,博采 FIB(聚焦離子束)銑削和 SEM(掃描電子顯微鏡)分析之長。借助自動化序列樣本銑削和成像功能,客戶可以創(chuàng)建二維序列圖像,進而開展三維容積重建。根據(jù)這些數(shù)據(jù),客戶可以在微米至納米量級別觀測和量化孔隙網絡等紋理。

                Helios NanoLab 的生命科學應用

                要想在三維背景下了解生物事件,就必須采用專用的成像解決方案,而且這些成像解決方案應能以極高的分辨率呈現(xiàn)極小的細節(jié),從而揭示出復雜網絡的超微結構和空間結構。Helios NanoLab 具有**的 SEM 性能和可靠、精確的 FIB 切片能力,還配備了高精度壓電工作臺,堪稱小型 DualBeam 平臺的**之選。出色的成像能力,輔以透鏡內和柱內檢測器提供的尖端高對比度檢測技術,能夠實現(xiàn)真正**的對比度。

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                Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡信息由賽默飛世爾科技電子顯微鏡為您提供,如您想了解更多關于Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡報價、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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