參考價(jià)格
5-10萬(wàn)元型號(hào)
CMSD2000品牌
IKN產(chǎn)地
德國(guó)樣本
暫無(wú)能耗:
0-40處理量:
300-40000物料類(lèi)型:
其它工作原理:
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升級(jí)版膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨,高速研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),IKN高速研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī),中試型研磨分散機(jī),德國(guó)研磨分散機(jī)
改良型膠體磨是三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,***小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
獨(dú)特創(chuàng)意,融化理念。將高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。
多功能改良型膠體磨,這種獨(dú)特的設(shè)計(jì),放眼世界,獨(dú)上海IKN一家,更多關(guān)于改良型膠體磨的信息,
多功能改良型膠體磨,研磨分散機(jī),簡(jiǎn)單的來(lái)講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時(shí)間差因素。從成本上來(lái)講,原先兩臺(tái)設(shè)備的價(jià)格,現(xiàn)在用一臺(tái)研磨分散機(jī)就可以完成,性價(jià)比更高。
CMSD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設(shè)備是CIK(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
CMSD2000系列改良型膠體磨,研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%
13795214885 賈清清
改良型膠體磨是三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,***小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機(jī),防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機(jī),納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機(jī),連續(xù)式納米二氧化硅分散機(jī),在線式納米二氧化硅分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口分散機(jī),在線式分散機(jī)IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復(fù)合物,具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國(guó)柏林化學(xué)公司在上世紀(jì)七十年代開(kāi)發(fā)上市,在歐美等國(guó)家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國(guó)衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱(chēng)為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相,另一相液體則稱(chēng)為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球(microspheres)是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實(shí)體,其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
在乳劑藥品如軟膏、乳霜等的整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中——必須按照嚴(yán)格的產(chǎn)品衛(wèi)生或無(wú)菌級(jí)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行管控。各種原料必須在受控、安全和可重復(fù)的條件下以定量的方式進(jìn)行均質(zhì)、加熱、冷卻、滅菌與填充。生產(chǎn)系統(tǒng)必須包含在線清洗(
一種分散乳化一體機(jī)
石墨粉液相剝離制備石墨烯,石墨烯液相剝離制備石墨烯,石墨粉液相剝離 石墨高速研磨分散目前,已經(jīng)有很多制備石墨烯的方法,整體上可以分為 自下而上和自上而下兩類(lèi)。自上而下途徑是從石墨出發(fā)(又可
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