編號：FTJS03214
篇名：復合鐵氰化鎳膜電極分離溶液中Cs~+初步研究
作者：李永國； 丘丹圭； 侯建榮； 郝曉剛； 孔海霞； 史英霞；
關鍵詞：毛細化學沉積法； 電控離子分離； NiHCF薄膜； 循環(huán)伏安法；
機構： 中國輻射防護研究院； 太原理工大學化工學院；
摘要： 在石墨-碳纖維-鎳網復合多孔基體上通過毛細化學沉積法合成制備具有電控離子分離性能的鐵氰化鎳(Nickel Hexacyanoferrate,NiHCF)薄膜。采用循環(huán)伏安法(CV)考察了復合薄膜電極的離子交換容量、循環(huán)壽命、選擇性與再生能力,并通過X射線能譜(Energy dispersive X-ray spectroscopy,EDS)分析了膜電極組成。實驗結果表明:該復合NiHCF膜電極對Cs+具有良好的選擇性、循環(huán)穩(wěn)定性與再生能力;離子分離能力為80~100 mA/g、擴散阻力(氧化還原峰偏移)0.31 V。
