編號：NMJS01646
篇名：納米黑鎳薄膜腐蝕行為的研究
作者：陳映川； 宋利曉； 陳宇； 張昭； 楊仲年； 張鑒清；
關(guān)鍵詞：鎂合金； 陽極氧化； 耐蝕性；
機構(gòu)： 上海電機學(xué)院； 浙江大學(xué)化學(xué)系； 嘉興市天器新材料科技有限公司； 濱州學(xué)院化學(xué)與化工系；
摘要： 采用直流電沉積技術(shù)在僅含有單一鎳鹽的改性Watts鍍槽中獲得了納米晶黑鎳薄膜,同時采用電化學(xué)阻抗譜(EIS)技術(shù)對其腐蝕電化學(xué)行為進行了詳細的研究。結(jié)果表明:納米晶黑鎳薄膜的表面平整、致密、光亮,平均晶粒直徑為51.4 nm,與黃銅基體間具有很好的結(jié)合力。在質(zhì)量分數(shù)為3.5%的中性NaCl溶液中,納米晶黑鎳薄膜較傳統(tǒng)的商用衛(wèi)浴亮鎳鍍層具有更好的耐蝕能力。
