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        納米硅粒子的表面氧化及其光致發(fā)光特性

        編號(hào):NMJS01444

        篇名:納米硅粒子的表面氧化及其光致發(fā)光特性

        作者:于威; 徐煥欽; 徐艷梅; 王新占; 路萬(wàn)兵; 傅廣生;

        關(guān)鍵詞:納米硅粒子; 射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積; 光致發(fā)光;

        機(jī)構(gòu): 河北大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院;

        摘要: 采用射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)制備了納米晶硅粒子,并對(duì)其溶液發(fā)光的穩(wěn)態(tài)和瞬態(tài)特性進(jìn)行了研究。穩(wěn)態(tài)光致發(fā)光結(jié)果顯示,新制備的納米硅粉體表現(xiàn)為峰值位于440 nm附近的藍(lán)色發(fā)光,經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間氧化后,該波段發(fā)光強(qiáng)度顯著增強(qiáng),并且出現(xiàn)另一峰值位于750 nm附近的紅色發(fā)光帶。不同波長(zhǎng)激發(fā)和時(shí)間分辨光致發(fā)光譜的分析表明,納米硅粒子藍(lán)色發(fā)光歸因于粒子內(nèi)部載流子的帶-帶躍遷過(guò)程,衰減時(shí)間在納秒量級(jí),氧化造成該波段發(fā)光衰減時(shí)間常數(shù)增加。氧化后出現(xiàn)的紅色發(fā)光來(lái)源于載流子經(jīng)由表面缺陷態(tài)的輻射復(fù)合,該發(fā)光衰減壽命微秒量級(jí)。

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