編號：NMJS08658
篇名：磁控濺射技術(shù)制備氮化鈦薄膜的研究進(jìn)展
作者：李昌恒 劉奎仁 魏世丞 韓慶 王博 王玉江
關(guān)鍵詞： 氮化鈦薄膜 磁控濺射 工藝參數(shù) 退火 性能
機(jī)構(gòu)： 東北大學(xué)冶金學(xué)院 陸軍裝甲兵學(xué)院裝備再制造技術(shù)國防科技重點實驗室
摘要： 磁控濺射在氮化鈦薄膜制備方面具有顯著優(yōu)勢,工藝參數(shù)對成膜質(zhì)量影響顯著。概述了氮化鈦薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、物理性質(zhì)及磁控濺射技術(shù)的工作原理及主要分類,重點綜述了濺射功率、濺射時間、基底偏壓、沉積溫度、濺射氣壓、氮分壓等工藝參數(shù)對氮化鈦薄膜組織結(jié)構(gòu)、表面形貌、沉積速率、表面粗糙度、擇優(yōu)取向、電學(xué)性能、力學(xué)性能、耐磨損性能、耐腐蝕性能、析氫性能等的影響規(guī)律和作用機(jī)理。此外,還就退火時間與退火溫度對薄膜組織結(jié)構(gòu)及電阻率的影響,基底材料對薄膜沉積速率與表面粗糙度的影響,以及靶材選取對薄膜的制備方式與成膜過程的影響等的研究與應(yīng)用現(xiàn)狀進(jìn)行了介紹,進(jìn)而展望了磁控濺射技術(shù)在制備高質(zhì)量氮化鈦薄膜領(lǐng)域的發(fā)展趨勢。
