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        基于ZnO納米線的圓柱形微納米跨尺度結(jié)構(gòu)的制備與表征

        編號:SBJS00345

        篇名:基于ZnO納米線的圓柱形微納米跨尺度結(jié)構(gòu)的制備與表征

        作者:景蔚萱; 牛玲玲; 王兵; 陳路加; 齊含; 周帆; 蔣莊德

        關(guān)鍵詞:跨尺度結(jié)構(gòu); ZnO納米線; 水浴法; 表面形貌

        機(jī)構(gòu): 西安交通大學(xué)機(jī)械制造系統(tǒng)工程國家重點(diǎn)實(shí)驗室

        摘要: 基于水浴法在光纖纖芯上合成了ZnO納米線,得到了圓柱形微納米跨尺度結(jié)構(gòu).將納米級的隨機(jī)粗糙表面疊加到微米級的圓柱形基底上,實(shí)現(xiàn)了對圓柱形跨尺度結(jié)構(gòu)表面形貌的仿真分析.采用掃描電子顯微鏡(SEM)并結(jié)合Matlab圖像處理算子對跨尺度結(jié)構(gòu)的表面形貌和ZnO納米線的幾何特征參數(shù)進(jìn)行了表征.與ZnO納米線薄膜實(shí)際輪廓提取出的特征參數(shù)相同,對均方根粗糙度為39.2 nm、偏斜度為0.1324及峭度為2.7146的圓柱形粗糙表面進(jìn)行了仿真,驗證了仿真表面與實(shí)際輪廓的一致性.建立了合成工藝參數(shù)對ZnO納米線的長度、直徑及長徑比等幾何特征參數(shù)的影響關(guān)系,確定最佳工藝條件為:種子層溶液Zn2+濃度為1.0 mmol/L,生長液Zn2+濃度為0.03 mol/L,生長時間為1.5 h,水浴恒溫90℃. 更多還原

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