編號：SBJS00342
篇名：銅基碳納米管薄膜的制備及其強(qiáng)流脈沖發(fā)射特性研究
作者：麻華麗； 霍海波； 曾凡光； 向飛； 王淦平
關(guān)鍵詞：強(qiáng)流脈沖發(fā)射； 碳納米管； 銅基底； 穩(wěn)定性
機(jī)構(gòu)： 鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院數(shù)理系； 中國工程物理研究院應(yīng)用電子學(xué)研究所,高功率微波技術(shù)重點實驗室
摘要： 為了研究碳納米管薄膜的強(qiáng)流脈沖發(fā)射特性,采用酞氰鐵高溫?zé)峤夥椒ㄔ跈C(jī)械拋光銅基底上直接生長了碳納米管薄膜(Cu-CNTs),Cu-CNTs生長方向各異.在20GW脈沖功率源系統(tǒng)中采用二極結(jié)構(gòu)對Cu-CNTs的強(qiáng)流脈沖發(fā)射特性進(jìn)行研究,研究結(jié)果表明:在單脈沖發(fā)射條件下,隨脈沖電場峰值的增大,Cu-CNTs薄膜的發(fā)射電流峰值呈線性增加,當(dāng)宏觀場強(qiáng)為15.5V/μm時,發(fā)射脈沖電流的峰值可達(dá)到5.56kA,對應(yīng)的發(fā)射電流密度0.283kA/cm2,當(dāng)宏觀場強(qiáng)達(dá)到32.0V/μm時,發(fā)射脈沖電流的峰值可達(dá)到18.19kA,對應(yīng)的發(fā)射電流密度0.927kA/cm2,發(fā)射電流能力明顯優(yōu)于已有報道.在相同峰值,連續(xù)多脈沖情況下,碳納米管薄膜具有良好的發(fā)射可重復(fù)性,且發(fā)射性能穩(wěn)定. 更多還原
